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GaN单晶衬底上同质外延界面杂质的研究
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作者 邵凯恒 夏嵩渊 +2 位作者 张育民 王建峰 徐科 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2021年第3期441-446,共6页
氮化镓单晶衬底上的同质外延具有显著的优势,但是二次生长界面上的杂质聚集一直是困扰同质外延广泛应用的难题,特别是对电子器件会带来沟道效应,对激光器应用会影响谐振腔中的光场分布。本文通过金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)生长... 氮化镓单晶衬底上的同质外延具有显著的优势,但是二次生长界面上的杂质聚集一直是困扰同质外延广泛应用的难题,特别是对电子器件会带来沟道效应,对激光器应用会影响谐振腔中的光场分布。本文通过金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)生长的原位处理,实现了界面杂质聚集的有效抑制。研究发现,界面上的主要杂质是C、H、O和Si,其中C、H、O可以通过原位热清洗去除;界面Si聚集的问题主要是由衬底外延片保存过程中暴露空气带来的,其次是氮化镓衬底中Si背底浓度,在外延过程中,生长载气对氮化镓单晶衬底不稳定的N面造成刻蚀,释放的杂质元素会对二次生长界面产生影响,本文较系统地阐明了界面杂质的形成机制,并提出了解决方案。 展开更多
关键词 氮化镓衬底 二次生长界面 界面杂质 杂质来源 同质外延 Si聚集
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Dislocation slip behaviors in high-quality bulk GaN investigated by nanoindentation
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作者 Kai-Heng Shao Yu-Min Zhang +1 位作者 Jian-Feng Wang Ke Xu 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2021年第11期445-448,共4页
The dislocation slip behaviors in GaN bulk crystal are investigated by nanoindentation, the dislocation distribution patterns formed around an impress are observed by cathodoluminescence(CL) and cross-sectional transm... The dislocation slip behaviors in GaN bulk crystal are investigated by nanoindentation, the dislocation distribution patterns formed around an impress are observed by cathodoluminescence(CL) and cross-sectional transmission electron microscope(TEM). Dislocation loops, vacancy luminescence, and cross-slips show hexagonal symmetry around the 11-20 and 1-100 direction on c-plane. It is found that the slip planes of dislocation in GaN crystal are dominated in {0001}basal plane and {10-11} pyramid plane. According to the dislocation intersection theory, we come up with the dislocation formation process and the related mechanisms are discussed. 展开更多
关键词 GaN DISLOCATION NANOINDENTATION CATHODOLUMINESCENCE TEM
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