低温等离子体沉积类金刚石薄膜

一、引 言 类金刚石薄膜有很多优越的性质,除了化学惰性外,它还具有很好的电学、光学和机械性能,如电阻率高,可见,紫外和红外光的透射性好以及附着力强等。至今已有各种各样的制备类金刚石的方法。如热解、离子束、溅射和等离子体化学气相沉积(PCVD)等。 本文采用的方法是在热丝CVD中加入直流放电。由于把直流放电和热解化学的方法结合起来,增强了CH_4的分解,同时为了了解成膜的微观过程,采用等离子体参数的诊断方法,实地监测膜的生成过程,对实现具有一定性质的类金刚石膜的重复生长是有利的。

化学气相淀积中甲烷含量变化的等离子体参数诊断

一、引言 金刚石薄膜以其优异的特性越来越受到人们的重视。人们已用各种方法制备出金刚石薄膜、并详细研究了膜质量、膜的形貌与各种宏观参量的关系。在这里,含碳物源相对于氢气的浓度比对金刚石膜的结构和形貌的影响是相当严重的。从许多报道中可知。

《试用护士培训手册》实施效果评价

[目的]让新聘试用护士得到正规化的培训,尽快适应临床工作。[方法]由护理部统一为每位试用护士印发《试用护士培训手册》,并讲解填写要求,定期收集批阅,反馈存在问题。[结果]试用护士能认真填写《试用护士培训手册》,严格要求自己,并在较短时间内完成试用护士培训计划,顺利步入临床工作。[结论]护理部实施严格的正规化管理措施,能提升试用护士工作责任心和实际工作能力,使其尽早胜任临床护理工作。

氩气掺入对类金刚石沉积过程的影响

在电子助进化学气相沉积(EACVD)类金刚石薄膜中,使用和比较CH_4/H_2与CH_4/H_2/Ar两种体系,用静电探针测量这两种体系的电子温度、电子密度,结果表明,在CH_4/H_2/Ar体系中,电子密度较高,使成膜的速率增加。