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高纯气体中痕量金属杂质的测定 被引量:7
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作者 崔仙航 徐学敏 +1 位作者 严性天 郎文卉 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1989年第12期945-951,共7页
本工作深入研究了高纯氮、氢、氯化氢、氨、硼烷、硅烷、砷烷及磷烷中钼、钙、铬、铜、铁、钾、锰、钠、铅和锌十种常见金属杂质的测定方法,解决了易燃、易爆及剧毒气体的取样,溶液的吸收条件及基体分离等问题.建立了无火焰原子吸收光... 本工作深入研究了高纯氮、氢、氯化氢、氨、硼烷、硅烷、砷烷及磷烷中钼、钙、铬、铜、铁、钾、锰、钠、铅和锌十种常见金属杂质的测定方法,解决了易燃、易爆及剧毒气体的取样,溶液的吸收条件及基体分离等问题.建立了无火焰原子吸收光谱法测定ng·g^(-1)量级的杂质,方法灵敏,简便,对生产及研制工艺将起积极的指导作用. 展开更多
关键词 高纯气体 痕量金属 杂质 测定
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硅烷的分析 被引量:4
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作者 尹恩华 杨雪珍 +1 位作者 于凤来 郎文卉 《低温与特气》 CAS 1985年第1期67-74,共8页
在大规模集成电路和非晶硅研制中,常常要对硅烷的纯度及其组分进行分析。有关硅烷分析的文章国内、外公开报道的不多。现有文献以苏联的居多,其次是日本和美国。1975年B.T.Peзчиков等报道了用光谱法测定硅烷中的总碳。
关键词 硅烷 大规模集成电路 B.T. 非晶硅 光谱法 PE
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