双层金属布线硅栅CMOS门阵列电路制造工艺技术研究

采用双层金属布线可以提高集成电路的集成密度、集成度和速度。本文报道了双层金属布线工艺技术成功地应用于制造标准3μm硅栅CMOS 500门、1200门、2000门多种门阵列专用大规模集成电路。本文对双层金属布线硅栅CMOS门阵列电路制造工艺技术的几个关键技术问题进行讨论。

新型高速CMOS逻辑电路系列74AC之研究

采用最新CMOS VLSI技术研制成了新一代高速逻辑电路——2μm硅栅CMOS逻辑74AC系列,其运行速度、最高频率和负载能力均达到甚至超过先进的第三代TTL系列74ALS,而仍保持CMOS IC的基本优点.本文介绍其设计、制造和主要特性,分析、讨论它同其它电路系列,特别是和74ALS的异同及其发展前景.用它采取代74ALS,不仅可大大降低系统的总功耗,且将开辟用现今的74ALS、LS或74HC无法实现的新的应用领域.它的发展潜力还相当大.