ICP-AES分析技术的发展及其在冶金分析中的应用

评述了近 2 0年来ICP AES分析技术的发展及其在冶金分析中的应用。内容包括 :ICP AES的发展历程、ICP AES分析方法的特性、ICP AES仪器的发展、在冶金分析中的应用现状、发展趋势。文中引用文献 6 2篇。

原子发射光谱仪器的新进展

原子发射光谱仪器正不断向全谱直读功能发展 ,并向智能化、小型化、实用化、低分析成本方向发展。新型的台式及便携式手提直读光谱仪 ,采用光栅分光—CCD检测器系统 ,光谱焦距仅在 1 5～ 1 7cm ,具有全谱直读的分析功能 ,其性能不亚于传统的实验室直读光谱仪。具有小型、轻便 ,可以对多种金属进行近似定理分析 ,直接显示分析结果 ;可以进行金属类型 ,对 /错鉴别 ,快速分类和等级鉴别 ,适于现场分析 ,可以带到任何需要进行金属分类的现场。

ICP-AES法测定高温合金中钽的研究

研究了采用ICP-AES法测定高温合金中钽的谱线选择、基体及合金元素的干扰、钽标准溶液的配制以及样品处理对测定结果的影响.确定了240.063 nm作为钽的分析线,在此波长下,高温合金中大量镍、铬、钨、钼、铝、钛、铌等元素不干扰测定,铁、钴的背景影响采用基体匹配办法克服.为了防止钽的水解,钽的标准溶液适宜用氢氟酸和草酸铵介质.溶样时,滴加氢氟酸处理样品可得到稳定结果,此外,采用适宜比例的硝酸和盐酸混合酸溶样后,硫酸冒烟处理也可以得到稳定结果.方法已用于高温合金中钽的测定,相对标准偏差为0.42%～0.97%.

ICP-AES法测定高温合金中痕量铪的研究

采用ICP AES法对Hf 2 63 871nm ,2 64 14 1nm ,2 77 3 3 6nm ,2 82 0 2 2nm等灵敏谱线的分析性能进行研究 ,对高温合金中基体及合金元素的干扰情况进行考察 ,选用 2 82 0 2 2nm作为分析线 ,并测定了Ti对Hf的干扰校正系数 ,确定了采用基体匹配法和干扰系数校正法对高温合金中痕量铪进行直接测定。方法的实际测定下限为 0 0 0 0 5 % ,测定精度RSD≤2 0 %。

电感耦合等离子体原子发射光谱分析仪器与方法的新进展

对近年出现的电感耦合等离子体原子发射光谱(ICP-AES)仪的技术性能和电感耦合等离子体原子发射光谱分析方法应用进展进行了综述。指出由于新推出的仪器一般采用CCD/CVD或CMOS固体检测器、固体数字式发生器、炬管垂直放置的双向观测、高性能计算机和强大功能的软件、多组分图谱拟合、高通量自动进样等新技术和高效节能的新设计理念,使谱线的分辨率、分析的稳定性和速度、性价比得到明显的提高,分析的波长范围和线性范围得到扩展。随着具有优越性能和性价比高的先进仪器的不断推出,ICP-AES法的应用得到很大发展,不但可以用来测定无机物中金属元素和非金属元素,还可以用来测定有机物中金属元素和非金属元素。应用领域也不断扩大,目前ICP-AES法已成为金属材料、能源及化工、水质及环境、矿产资源等分析实验室不可缺少的分析手段。

铁矿石化学分析方法标准及实验室能力验证

对铁矿石分析方法标准的进展及铁矿石测试能力验证的动态进行评述。介绍了铁矿石的分析概况及化学成分分析要求,对铁矿石化学分析的国际标准(ISO标准)和国家标准(GB标准)方法进行了对照,解析了几个主要测定指标;介绍了近几年来北京中实国金国际实验室能力验证研究中心开展的铁矿石能力验证项目,评述了铁矿石分析中几个典型项目,包括铁矿石标准物质的全分析、铁矿石的X射线荧光光谱分析和铁矿石的价态分析。

原子发射光谱仪器的发展、现状及技术动向

本文简述了原子发射光谱的发现及其仪器的发展历程，对现代原子发射光谱仪器类型：Spark—AES、Arc-AES，ICP—AES、MP．AES，辉光放电光谱GDS，激光诱导光谱LIBS等商品仪器的现状、分析功能、制造水平其及技术特点进行评述，并就当前原子发射光谱仪器发展中备受关注的几个技术问题进行研讨。

铁芯,磁头等软磁材料中残余元素分析方法研究

应用等离子（ＩＣＰ）直读光谱法对铁芯（１Ｊ７７）磁头（ＵＰＣ、１Ｊ８５Ｃ）等铁镍软磁材料中影响材质性能的残余成分Ａｌ、Ｃｏ、Ｃｒ进行准确测定。在消除基体元素干扰、提高灵敏度及测定精度等方面进行研究，测出了Ｎｉ对Ｃｏ、Ｍｏ对Ａｌ的干扰系数分别为：０．０００８２％Ｃ１％Ｎｉ和０．０２３％Ａｌ／１．０％Ｍｏ。采用干扰系数校正和基体匹配法，建立了ＩＣＰ－ＡＥＳ法同时测定软磁材料中合金主成分与０．

新材料碳—60的制备研究

本文对新材料Ｃ６０的电弧法制备，活性碳柱色谱分离提纯方法进行了研究，并对小批量生产Ｃ６０纯品的工艺过程进行试验，设计了一套制备Ｃ６０的真空等离子电弧炉及活性碳复合柱快速分离提纯装置，并确立了简便有效的制取Ｃ６０和Ｃ７０纯品的工艺流程，在本文研制的装备条件下，采用φ６×３０ｍｍ的石墨电极，在充氦压０．０１ＭＰａ，电流：１２０－１４０Ａ，电压：２０－３０Ｖ，电极间距１－２ｍｍ的条件下制灰。