玻璃基片上SiO_2膜层厚度的测量方法

钠钙玻璃基片在液晶显示器件（ＬＣＤ） 等制造业中得到了广泛的应用。为防止基片中的碱金属离子扩散到器件的工作介质中，进而影响其化学稳定性和使用寿命，一般要在基片表面镀上一定厚度的ＳｉＯ２ 膜层，以便起到阻挡层的作用。基于Ｐ蚀刻剂对ＳｉＯ２ 膜层和基片有显著不同的蚀刻速度，提出了一种测量玻璃基片上的ＳｉＯ２ 膜层厚度的方法，即：利用表面轮廓仪，在测量三个不同的蚀刻数据后，计算出ＳｉＯ２ 膜层的厚度。以用射频溅射法制备的ＳｉＯ２ 膜层为样品进行了测量。