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氮化物垂直腔面发射激光器的发展与挑战(特邀) 被引量:2
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作者 王玉坤 郑重明 +2 位作者 龙浩 梅洋 张保平 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第2期29-52,共24页
垂直腔面发射激光器凭借阈值低、发散角小、调制速率高以及输出光束呈圆斑对称等特点,迅速成为当下半导体激光器的研究热点。氮化镓(GaN)材料是制造紫外到绿光波段光电子器件的理想材料,经过四十余年的研究,蓝光和绿光LED在照明、显示... 垂直腔面发射激光器凭借阈值低、发散角小、调制速率高以及输出光束呈圆斑对称等特点,迅速成为当下半导体激光器的研究热点。氮化镓(GaN)材料是制造紫外到绿光波段光电子器件的理想材料,经过四十余年的研究,蓝光和绿光LED在照明、显示等领域得到广泛应用。技术含量更高的激光器件也已进入了应用的快车道,即将覆盖照明、通信、投影显示、光存储、医疗、微型原子钟及传感器等场景。铝镓氮(AlGaN)是GaN基半导体材料的重要代表之一,其禁带宽度可在3.4 eV(GaN)到6.2 eV(AlN)范围内连续可调,对应波长可覆盖200~365 nm波段,是制造从近紫外波段到深紫外波段紫外垂直腔面发射激光器的理想材料。而铝镓氮(AlGaN)垂直腔面发射激光器经过近20年来的发展,如今已成为半导体激光器的研究热点之一。首先回顾了GaN基垂直腔面发射激光器的发展历史,简要介绍了其在各个波段的主要应用场景;然后介绍蓝光、绿光及紫外垂直腔面发射激光器的研究进展;最后分析了光注入和电注入紫外垂直腔面发射激光器发展过程中的挑战和困难,并介绍了改进和优化的策略。 展开更多
关键词 半导体器件与技术 垂直腔面发射激光器 氮化物 紫外 光电子器件 激光器 ALGAN
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Effect of deposited temperatures of the buffer layer on the band offset of CZTS/In2S3 heterostructure and its solar cell performance 被引量:1
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作者 俞金玲 郑重明 +6 位作者 董丽美 程树英 赖云锋 郑巧 周海芳 贾宏杰 张红 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第4期356-361,共6页
The effect of the deposition temperature of the buffer layer In_2S_3 on the band alignment of CZTS/In_2S_3 heterostructures and the solar cell performance have been investigated.The In_2S_3 films are prepared by therm... The effect of the deposition temperature of the buffer layer In_2S_3 on the band alignment of CZTS/In_2S_3 heterostructures and the solar cell performance have been investigated.The In_2S_3 films are prepared by thermal evaporation method at temperatures of 30,100,150,and 200 ℃,respectively.By using x-ray photoelectron spectroscopy(XPS),the valence band offsets(VBO) are determined to be-0.28 ±0.1,-0.28 ±0.1,-0.34 ±0.1,and-0.42 ±0.1 eV for the CZTS/In_2S_3heterostructures deposited at 30,100,150,and 200 ℃,respectively,and the corresponding conduction band offsets(CBO)are found to be 0.3 ±0.1,0.41 ±0.1,0.22±0.1,and 0.01 ±0.1 eV,respectively.The XPS study also reveals that interdiffusion of In and Cu occurs at the interface of the heterostructures,which is especially serious at 200 ℃ leading to large amount of interface defects or the formation of CuInS_2 phase at the interface.The CZTS solar cell with the buffer layer In_2S_3 deposited at 150 ℃ shows the best performance due to the proper CBO value at the heterostructure interface and the improved crystal quality of In_2S_3 film induced by the appropriate deposition temperature.The device prepared at 100 ℃presents the poorest performance owing to too high a value of CBO.It is demonstrated that the deposition temperature is a crucial parameter to control the quality of the solar cells. 展开更多
关键词 band offset deposition temperature CZTS/In2S3 heterostructure solar cell
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高质量的AlGaN外延结构和UVC垂直腔面发射激光器的实现
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作者 郑重明 王玉坤 +6 位作者 胡建正 郭世平 梅洋 龙浩 应磊莹 郑志威 张保平 《Science China Materials》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第5期1978-1988,共11页
AlGaN基垂直腔面发射激光器(VCSEL)因其优越的材料性质和器件优点吸引了很多关注.然而,由于材料外延生长和器件制备工艺的局限,AlGaN基VCSEL制备很困难.本工作通过侧向外延生长技术制备了高质量的AlGaN多量子阱(MQWs)结构的外延片,并通... AlGaN基垂直腔面发射激光器(VCSEL)因其优越的材料性质和器件优点吸引了很多关注.然而,由于材料外延生长和器件制备工艺的局限,AlGaN基VCSEL制备很困难.本工作通过侧向外延生长技术制备了高质量的AlGaN多量子阱(MQWs)结构的外延片,并通过X射线衍射(XRD)和光致发光(PL)实验对外延片进行了分析.XRD测量显示,外延片中的AlN模板层几乎是弛豫的,刃位错密度为10^(9)cm^(-2).随后,生长的AlGaN/AlN超晶格(SL)层被用来减少刃位错密度,使得量子阱中的位错密度为10^(8)cm^(-2).根据PL测试结果,MQWs的内量子效率(IQE)为62%,且在室温下的发光以辐射复合为主.通过激光剥离(LLO)和化学机械抛光(CMP)技术,将这些外延片制备成UVC VCSEL.经过这些工艺,MQWs的晶体质量没有受到影响,还在抛光之后的表面观察到了UVC波段的受激辐射.这些AlGaN基UVC VCSEL在275.91,276.28和277.64 nm实现了激射,最小激射阈值为0.79 MW cm^(-2). 展开更多
关键词 ALGAN vertical-cavity surface-emitting lasers epitaxial lateral overgrowth laser lift-off UVC
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