磁阱等离子体源离子注入研究

本文描述在磁阱装置中利用旋转等离子体的概念给浸泡于等离子体中的样品施加直流高压的实验工作,工件电压高达-22kV,文中还对相关物理问题进行了定性分析。

双会切串级镜MM-4U的初步实验结果

本文描述MM-4U装置及其初步实验结果。这些结果主要是,用电子注入可以在装置系统中建立等离子体;测得轴向等离子体电位分布,东、西会切中心和中心室的等离子体电位分别为-184V,-164V和-1.8V;得到轴向电子密度分布与电位分布有相同形式,三个中心的密度分别为1.7×10^(11)cm_(-3),4.7×10^(10)cm^(-3),7.5×10~7cm^(-3);观测到中心室存在不稳定性,其振荡频率为7—9.2kHz。对上述结果进行了分析,提出了进一步研究的课题。

用于等离子体诊断的微波超外差前馈跟踪系统

本文描述了8mm波段超外差前馈跟踪系统的原理及在聚变等离子体实验装置上的应用。它适用于在强的辐射条件下的微波干涉、微波散射及微波传输等实验。具有很高的抑制辐射噪声干扰的能力。本文详细介绍了此系统小型磁镜实验装置MM-2中等离子体密度的测量方法,它有效地克服了由于该装置中由同步辐射造成的强的干扰,信噪比大于45分贝。该系统优于其他诊断系统的特点在本文中也进行了讨论。