菁染料共价键合在单晶硅表面的X－光电子能谱

在单晶硅表面通过多步化学反应共价键合多种菁染料，对它们的ＸＰＳ分析表明，单晶硅表面存在着与各单体染料组成相同的化学元素及化学环境，并由有关元素结合能的分析证明它们是通过硅氮键键合于单晶硅表面上的。

单晶硅表面键合两种甲川菁及其光谱响应的研究

单晶硅表面键合两种甲川菁及其光谱响应的研究王兰英，郝纪祥，张祖训，曹子祥（西北大学化学系，西安，７１００６９）（西北大学电子科学系）关键词光敏染料，单晶硅表面，光谱响应半导体表面化学键合光敏染料的研究是当今化学与材料科学研究的前沿课题之一［１］，近年...

两种均三嗪衍生物坚膜剂的合成及坚膜性能的测定

合成了２，４－二氯－６－硫脲基－均三嗪钠盐及２－氯－４－三甲胺基－６－硫脲基－均三嗪内盐，并测定了这两种化合物的坚膜性能。

单晶锗表面键合光敏染料的研究

本文在烯丙醇单体上进行了两种一甲川菁的合成,并用一种新的化学键合法将两种一甲川菁染料键合在抛光的半导体单晶锗表面。将键合有光敏染料的锗片进行了激光Raman光谱及XPS谱测试,结果表明,与对照锗片相比,键合后的锗片表面,锗衬底的一级拉曼峰强度减少,并在600～3200cm^(-1)范围内出现了与键合颜料分子相应的拉曼频移;在XPS谱中,分别进行了C,N,O,S,卤素等原子的谱图分析,证实了键合颜料后半导体单晶锗表面增加了C—N,S—C,C—O等键,结果与键合的颜料分子结构相符,表明两种光敏染料通过锗氧键共价键合于锗表面。

若丹菁在单晶锗表面的键合

通过烯丙醇单体 ,用化学键合法将一种若丹菁键合在了抛光的单晶锗表面 .将键合有光敏染料的锗片进行了激光 Raman光谱及 XPS谱测试 .结果表明 :若丹菁染料通过 Ge O键键合于锗表面 .

减感染料的HMO计算

用ＨＭＯ法（Ｈüｃｋｅｌ分子轨道法）对６个减感系列染料的π－电子能级进行了计算。测定了染料的激发能和还原半波电位，计算值和实测值吻合较好。

吡啶菁衍生物键合于单晶硅表面的研究

用化学方法将两种光敏染料２，４－吡啶等衍生物及噻－４’－吡啶等衍生物分别键合于单晶硅表面，对所得键合光敏染料之硅片进行了拉曼光谱及ｘ－射线光电子能谱的测试，结果表明：两种光敏染料都被键合在单晶硅表面。同时，测定了用键合了光敏染料的半导体硅片制成的Ｉｎ／染料／ｎ－Ｓｉ多层结构器件的光谱响应，与无覆盖抗反射膜的硅ｐ－ｎ结光电池的光谱响应曲线相比较，发现除在６５０ｎｍ处出现对应于硅衬底的吸收峰外，在短波范围内出现与光敏染料的最大吸收相对应的吸收峰。由此可见光敏染料的键合可拓宽半导体硅的光谱响应。

一种碳菁染料化学键合于单晶硅表面及光谱响应的测定

叙述了用直接犍合法将一种碳菁染料键合于抛光的单晶硅表面,并对其进行了激光拉曼光谱、XPS分析。结果表明,预想结构的染料已键合于单晶硅表面。同时,还测定了由键合染料硅片制成的In/染料/n-Si多层结构器件的光谱响应,发现该器件具有光生伏特效应,其光谱响应曲线出现了与单体染料λ_(max)(甲醇中)相对应的峰值。

光敏染料的键合及其对单晶硅的光敏化作用

用卤化法将噻－２＇－菁光敏染料共价键合于单晶硅表面。测定了键合染料硅片的表面光电压，结果表明，键合光敏染料噻－２’－菁对单晶硅具有很强的敏化作用；利用电化学测量和紫外可见吸收光谱确定了键合光敏染料噻－２’－菁与硅之间的相对能级位置，并对界面电子转移过程进行了讨论。

噻菁感蓝染料的合成及其紫外可见光谱的研究

合成了染料中间体２－甲基－３－磺酸丙基－取代苯并噻唑氢氧化物内盐Ⅰ＿（ａ－ｆ）及２－磺酸丙硫基－３－磺酸丙基苯并噻唑氢氧化物内盐Ⅱ，由Ⅰ与Ⅱ在三乙胺的催化下缩合制得－甲川噻菁染料Ⅲ＿（ａ－ｆ）；初步研究了Ⅲ＿（ａ－ｆ）的结构与其在甲醇中最大吸收的关系。

单晶硅表面湿氧化及光敏染料的键合

利用湿氧化法在单晶硅表面引入活性基团（Ｓｉ－ＯＨ），然后与１，２－二溴乙基三乙氧基硅烷及染料中间体进行多步化学反应，最终在单晶硅表面生成光敏染料２，２＇，菁衍生物，并对所得键合光敏染料硅片进行了椭偏参数、拉曼光谱及ｘ－射线光电子能谱的测试，结果表明光敏染料被键合在单晶硅表面．

单晶硅表面键合复合份菁及其伏－安特性

用化学方法将３种复合份菁化学键合于单晶硅表面，并用激光拉曼光谱和Ｘ－光电子能谱进行了表征。暗的和光照的伏安特性测量表明键合染料的ｎ—Ｓｉ表面具有光生伏特效应，证实了ｎ－Ｓｉ－侧存在电子势垒。

单晶硅表面键合菁染料的表面增强拉曼散射

用表面增强拉曼散射技术研究单晶硅表面键合光敏染料，可获得信噪比强的ＳＥＲＳ图。因染料分子中含有孤对电子的氮原子和起增强作用的银离子相互作用，使Ａｇ＋成为连结染料分子间的锁，增加染料分子极化率，使拉曼散射截面积增大，从而起到增强效果的作用。

a－Si：H表面键合光敏染料及其光电导

本文报导了用低温等离子体法使ａ－Ｓｉ：Ｈ表面活化，经多步化学反应，将３种菁键合于其表面，并经激光拉曼光谱和Ｘ－光电子能谱表征。测定了键合染料的ａ－Ｓｉ：Ｈ的吸收光谱和光电导。结果表明，光敏染料可使ａ－Ｓｉ：Ｈ敏化，改善其光吸收和光电导。

光谱增感染料798的聚集效应与AgBr上的吸附

对用于黑白片感红染料798(3,3′—二羟乙基—5,5′—二甲氧基—9—乙基—噻碳菁氯盐)由记录其吸收光谱,反射光谱,研究了它在甲醇,水及KBr水溶液中的聚集效应和吸附于AgBr表面的吸附态性质.得到在甲醇中以单分子态存在的最大吸收入max为560nm.25℃水溶液中(5×10^(-6)～2.5×10^(-5)5mol/L)存在二聚平衡(λ_D=520nm),二聚平衡常数K(298K)=1.28×10^(-5)(△γG(298K)=27.9kJ)以及△γH(298K)=35.2KJ,△γ(298K)=24.5JK^(-1).25℃的吸附等温线表明798在AgBr上为多层吸附,第一吸附层的饱和吸附量是0.73μmol/g,[按单分子染料单元计算)吸附态的表面反射光谱表明,只在第一层中存在J-聚集状态.

DS系列碱感染料的合成

本文设计合成了菁和氮菁七个减感染料,并用元素分析、紫外—可见光谱和红外光谱进行了表征。

JG系列减感染料在卤化银感光乳剂中的应用

本文研究了JG系列减感染料在卤化银感光乳剂中的应用。对JG系列减感染料减感性能进行了测定，发现加入了JG系列减感染料的乳剂具有较强的减感作用。测定了JG系列减感染料对卤化银乳剂照相性能的影响，结果表明JG系列减感染料对氯溴乳剂的照相性能无不良影响。

溴化银颗粒在水中浸湿热的量热测定

补偿式数字量热计可以直接测定微小热效应,为了证实过程,本文以溴化银颗粒为例(比表面=0.21m^2/g,BET吸附N_2法测定),直接测定了在水中的浸湿热,其结果与文献记载一般固体的浸湿热相符。

单晶硅表面溴化键合光敏染料及其表面光电压

当今,新型光电功能材料的开发和利用是非常活跃的研究领域。半导体材料的研究在这一领域占有重要地位.为了改善半导体材料及器件的光电性能,提高光电转换效率及拓宽光谱响应范围等,人们利用金属离子掺杂,或将有机半导体通过吸附、涂层、沉积等物理方法固定在无机半导体表面,已获得卓有成效的效果。

单晶硅表面键合光敏染料及其光谱响应的测定

本文提出了一种化学键合方法,它能将光敏染料直接键合在抛光的单晶硅表面。对由该方法得到的键合有菁染料及碳菁染料的硅片,进行了激光Raman光谱及XPS谱分析,结果表明,这两种染料通过硅氮键共价键合于硅片表面。实验发现,由键合有染料的n型硅片制成的In染料n-Si多层结构器件具有光生伏特效应,其光谱响应曲线出现了与染料的最大吸收相对应的吸收峰。