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硅的切削液的分析研究
被引量:
14
1
作者
刘玉岭
檀柏梅
+1 位作者
郝国强
郝美功
《电子器件》
CAS
2001年第2期113-119,共7页
重点研究了硅的切削液的作用机理及相应切削液成分选择的理论依据 ,着重突出了对其渗透性和去除金属离子方面的研究。并在此理论的指导下 ,研制出的切削液性能稳定 ,效果显著 ,实现了技术突破。
关键词
切削液
表面张力
渗透性
螯合剂
硅
半导体材料
下载PDF
职称材料
空气传播分子污染物、源头及监控系统的研究
2
作者
吴维明
郝美功
《洁净与空调技术》
2009年第1期71-75,共5页
通过研究某半导体制造工厂应用AMC控制程序的案例,探讨关于AMC控制的具体内容,了解AMC并掌握如何制定正确的AMC评估战略、描述与建立AMC控制原则和规范、理解AMC控制系统的设计理念。
关键词
空气传播分子污染物
污染源头
根除控制
实时监控
下载PDF
职称材料
题名
硅的切削液的分析研究
被引量:
14
1
作者
刘玉岭
檀柏梅
郝国强
郝美功
机构
河北工业大学
出处
《电子器件》
CAS
2001年第2期113-119,共7页
文摘
重点研究了硅的切削液的作用机理及相应切削液成分选择的理论依据 ,着重突出了对其渗透性和去除金属离子方面的研究。并在此理论的指导下 ,研制出的切削液性能稳定 ,效果显著 ,实现了技术突破。
关键词
切削液
表面张力
渗透性
螯合剂
硅
半导体材料
Keywords
cutting fluid
capillary
permeability
chelating agent
分类号
TN305.1 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
空气传播分子污染物、源头及监控系统的研究
2
作者
吴维明
郝美功
机构
上海申和热磁电子有限公司硅材料事业二部
出处
《洁净与空调技术》
2009年第1期71-75,共5页
文摘
通过研究某半导体制造工厂应用AMC控制程序的案例,探讨关于AMC控制的具体内容,了解AMC并掌握如何制定正确的AMC评估战略、描述与建立AMC控制原则和规范、理解AMC控制系统的设计理念。
关键词
空气传播分子污染物
污染源头
根除控制
实时监控
Keywords
Airborne Molecular Contaminant
Contaminant Source
deracinate for a cortol
real time monitoring
分类号
X51 [环境科学与工程—环境工程]
TP277 [自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]
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职称材料
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作者
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1
硅的切削液的分析研究
刘玉岭
檀柏梅
郝国强
郝美功
《电子器件》
CAS
2001
14
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职称材料
2
空气传播分子污染物、源头及监控系统的研究
吴维明
郝美功
《洁净与空调技术》
2009
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