布洛芬与Ni-Ti-LDHs的杂化机理研究

使用共沉淀法制备了Ni-Ti-LDHs作为载体,选用布洛芬(Ibuprofen,IBU)作为客体,采用离子交换法制备不同复合比的IBU-LDHs杂化物,并运用XRD、SEM、TG-DTG以及FT-IR等技术加以表征。XRD和SEM分析初步表明布洛芬成功插层LDHs中。同时TG-DTG分析结果得出IBU-LDHs杂化物热稳定性提高。结合FT-IR分析发现插层后的LDHs特征峰改变,因此进一步证明在杂化过程中NO3-被布洛芬阴离子替换出来并和羟基结合发生类酯化反应。这些结论为药物与LDHs杂化机理的研究提供了理论依据。

谈机电一体化在机械制造中的应用

随着我国逐渐加快脚步步入新时代,我国的机电一体化水平也得到了突飞猛进的发展,这对我国生产力的发展产生了重要的推动作用。机电一体化技术融合机械工程、电子信息技术等新时期的技术并将其灵活有效地运用到机械工程中,进而实现机械工程信息化水平与现代化水平的显著提升,与此同时,也实现了机械工程设备生产过程各个环节的优化与创新。基于此,将机电一体化应用到机械制造中具有时代意义。

微小体积紫外可见反射式成像光谱仪的光学系统设计

目前,对于成像光谱仪系统的微型化,缺少有效方式来自动获得在固定体积范围内的良好设计起点。提出了一种微型反射式光谱成像仪初始结构的构建方法,建立体积与成像质量之间的联系,基于像差理论合理地缩小潜在结构的数量,求出在体积限制条件下包含色散元件的离轴初始结构,以为新型光谱仪提供准确的设计起始点,之后经过设计软件优化得到理想结果。基于此方法设计了一款在3 L体积限制下的离轴反射式成像光谱仪,设计结果表明:工作谱段为320~500 nm,在奈奎斯特频率(12 lp/mm)处各特征波长的调制传递函数优于0.8,系统弥散斑均方根小于10μm,光谱分辨率达到0.5 nm。整个设计系统的结构紧凑、分辨率高、成像质量好,为相关离轴反射结构设计提供了新思路和新方法。

狭缝匀光器对遥感光谱仪探测精度的研究

对星载仪器的回传数据进行分析,发现空间场景不均匀现象会造成光谱响应函数(ISRF)的“漂移”,从而影响探测数据精度。提出通过光学元件平衡了ISRF“漂移”的问题--狭缝匀光器。概述了光线在狭缝匀光器中的传播过程,建立了合理的光学模型,利用近场衍射原理解释其传播过程并分析了狭缝匀光器的光学特性。整个狭缝模型由数学软件和光学软件进行仿真模拟及数理分析,得到狭缝匀光器匀光效果的具象表示。通过光学模型表示了入瞳场景与狭缝匀光器匀光效果之间关联,研究不同入瞳场景中痕量气体排放点位置和覆盖面积的不同对狭缝匀光器提升探测精度的影响,量化了不同入瞳场景下光谱仪系统ISRF的变化,并提出一种提高探测精度的方法。

共轴PGP型光谱仪的玻璃选择与优化

针对棱镜-光栅-棱镜(PGP)型成像光谱仪装调难度大的问题,通过校正PGP成像光谱仪色差的方法保证探测器像面与光轴垂直,并设计了一款宽波段复消色差的PGP系统。从宽波段复消色差理论出发,计算了三种玻璃材料组合理论色差的最小值,为光学设计的复消色差提供了理论支持。利用光学设计软件优化得到的初始结构,结果表明,PGP系统的二级光谱得到了很好的校正,且探测器的CCD无需倾斜,更方便后期装调。覆盖谱宽为400~1000 nm,视场为9.2 mm,空间分辨率优于10μm,光谱分辨率优于2.8 nm,光学传递函数大于0.7,接近衍射极限,满足成像要求。

狭缝离轴校正透射式光谱仪谱线弯曲

为了有效校正透射式色散型成像光谱仪系统的谱线弯曲,提出了一种基于狭缝离轴的畸变补偿方法。该方法首先假设中心波长谱线弯曲得到校正,计算出色散元件的入射角随狭缝长度的变化关系;接着对狭缝进行离轴处理,利用准直镜的畸变得到色散元件的目标入射角,从而校正中心波长的Smile畸变(谱线弯曲),剩余波长的Smile畸变和Keystone畸变(色畸变)向外弯曲,整体呈枕形畸变;最后使用会聚镜的畸变校正剩余谱线弯曲。利用该方法设计了一款反射光栅型成像光谱仪,在各项参数满足设计要求的同时,利用准直镜畸变校正了系统的谱线弯曲,基于该设计研制了原理样机,系统Smile畸变最大为12.9μm,Keystone畸变最大为6.4μm,测试结果满足系统的设计要求,证明了该方法的可行性。

光谱仪会聚光路中退偏器的设计方法

为了降低光谱仪的偏振敏感度,提出了一种在会聚光路中设计退偏器的方法。该方法首先将系统的望远镜和准直镜视为辅助光路,使得光束的偏振状态可以用Stocks矢量来表示;然后使用Mueller矩阵来表示元件的偏振特性,并推导出了基于Mueller矩阵的系统偏振敏感度模型;最后利用多重多元回归分析来提升Mueller矩阵的计算速度与精度。基于该方法设计了一款放置在会聚光路中的改进型退偏器,系统的偏振敏感度小于1%,像点分裂距离小于8μm,该结果满足设计要求,验证了该方法在会聚光路中设计退偏器的有效性。