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Al-Eu共掺杂ZnO薄膜的制备与光电性质研究
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作者 郭正广 《科技创新与应用》 2024年第35期86-89,共4页
该文采用射频磁控溅射技术在c面蓝宝石和p型硅衬底上制备Al-Eu共掺杂ZnO(AEZO)薄膜,探讨不同衬底类型及退火处理对薄膜的物相结构、电子性能以及光学性能的作用。XRD分析确认AEZO薄膜呈六角纤锌矿结构,Al3+和Eu3+离子成功掺杂,且薄膜高... 该文采用射频磁控溅射技术在c面蓝宝石和p型硅衬底上制备Al-Eu共掺杂ZnO(AEZO)薄膜,探讨不同衬底类型及退火处理对薄膜的物相结构、电子性能以及光学性能的作用。XRD分析确认AEZO薄膜呈六角纤锌矿结构,Al3+和Eu3+离子成功掺杂,且薄膜高度织构化。蓝宝石衬底的AEZO薄膜结晶度更优,退火提升其结晶质量。表面分析显示,蓝宝石衬底使AEZO薄膜更致密,退火改善表面均匀性。电学测试表明,硅衬底AEZO薄膜导电性更佳,但退火减弱导电性。光学特性表明AEZO薄膜不仅在相同范围透射率更高,且吸收边有向短波方向移动的趋势。该研究揭示衬底和退火对AEZO薄膜性能的影响,为透明导电薄膜的设计提供指导。 展开更多
关键词 (Al Eu)-ZnO 磁控溅射 电学性质 光学特性 导电薄膜
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