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题名Al-Eu共掺杂ZnO薄膜的制备与光电性质研究
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作者
郭正广
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机构
无锡职业技术学院控制工程学院
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出处
《科技创新与应用》
2024年第35期86-89,共4页
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基金
无锡职业技术学院校级自然科学类科研课题(ZK202305)。
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文摘
该文采用射频磁控溅射技术在c面蓝宝石和p型硅衬底上制备Al-Eu共掺杂ZnO(AEZO)薄膜,探讨不同衬底类型及退火处理对薄膜的物相结构、电子性能以及光学性能的作用。XRD分析确认AEZO薄膜呈六角纤锌矿结构,Al3+和Eu3+离子成功掺杂,且薄膜高度织构化。蓝宝石衬底的AEZO薄膜结晶度更优,退火提升其结晶质量。表面分析显示,蓝宝石衬底使AEZO薄膜更致密,退火改善表面均匀性。电学测试表明,硅衬底AEZO薄膜导电性更佳,但退火减弱导电性。光学特性表明AEZO薄膜不仅在相同范围透射率更高,且吸收边有向短波方向移动的趋势。该研究揭示衬底和退火对AEZO薄膜性能的影响,为透明导电薄膜的设计提供指导。
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关键词
(Al
Eu)-ZnO
磁控溅射
电学性质
光学特性
导电薄膜
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Keywords
(Al,Eu)-ZnO
magnetron sputtering
electrical property
optical property
conductive film
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分类号
TQ132.41
[化学工程—无机化工]
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