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电子束蒸镀制备的Mg-Zr-O复合介质保护膜结晶取向的研究 被引量:1
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作者 郭滨刚 刘纯亮 +2 位作者 刘柳 范玉峰 夏星 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第1期53-56,共4页
采用电子束蒸发制备Mg Zr O复合介质保护膜 ,使用X射线衍射测试Mg Zr O复合介质保护膜的结晶择优取向 ,研究了ZrO2 掺杂及工艺参数对Mg Zr O复合介质保护膜结晶取向的影响。结果表明 ,ZrO2 掺杂会使Mg Zr O复合介质保护膜产生晶格畸变 ... 采用电子束蒸发制备Mg Zr O复合介质保护膜 ,使用X射线衍射测试Mg Zr O复合介质保护膜的结晶择优取向 ,研究了ZrO2 掺杂及工艺参数对Mg Zr O复合介质保护膜结晶取向的影响。结果表明 ,ZrO2 掺杂会使Mg Zr O复合介质保护膜产生晶格畸变 ,并改变其结晶取向。当ZrO2 掺杂比为 0和 0 .10时 ,晶格畸变较小 ,容易获得 (111)结晶取向 ;当ZrO2 掺杂比为0 .0 5和 0 .2 0时 ,晶格畸变较大 ,容易获得 (2 2 0 )或 (2 0 0 )结晶取向。蒸镀工艺对 (111)、(2 0 0 )和 (2 2 0 )取向的影响不尽相同 :较高的蒸镀速率有利于获得较强的 (111)、(2 0 0 )和 (2 2 0 )衍射峰 ;较低的基板温度有利于获得 (111)和 (2 2 0 )结晶取向 ,而较高的基板温度则有利于获得 (2 0 0 )结晶取向。 展开更多
关键词 结晶取向 蒸镀 复合介质 掺杂 ZRO2 晶格畸变 衍射 保护膜 基板 电子束
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壁电荷对ACPDP中气体击穿电压的影响
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作者 郭滨刚 刘纯亮 +1 位作者 范玉锋 夏星 《北京理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第z1期1-3,共3页
用电容平衡法测量ACPDP宏放电单元在维持放电期的壁电荷变化,并根据宏放电单元壁电荷电压和外 加最小维持电压的测量结果计算实际施加在放电气体上的击穿电压,探讨壁电荷电压对放电气体实际击穿电压的 影响.实验结果表明:随着ACPDP外... 用电容平衡法测量ACPDP宏放电单元在维持放电期的壁电荷变化,并根据宏放电单元壁电荷电压和外 加最小维持电压的测量结果计算实际施加在放电气体上的击穿电压,探讨壁电荷电压对放电气体实际击穿电压的 影响.实验结果表明:随着ACPDP外加最小维持电压的增加,壁电荷电压升高,气体的击穿电压也随之升高; 有壁电荷时的气体击穿电压明显高于无壁电荷时的气体击穿电压,随着壁电荷电压从7.62 V升高到67.89 V,有壁 电荷时的气体击穿电压比无壁电荷时的气体击穿电压分别提高了6.98 V到57.09 V;壁电荷增加会显著提高了放电 气体的击穿电压阈值,使ACPDP内放电气体的击穿变得困难. 展开更多
关键词 壁电荷 击穿电压 维持电压 ACPDP
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老炼过程对表面放电型ACPDP显示屏内MgO薄膜二次电子发射系数的影响
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作者 郭滨刚 胡文波 +2 位作者 郑德修 何锋 刘纯亮 《真空电子技术》 2005年第5期47-50,共4页
在Paschen定律基础上,使用计算出的表面放电型ACPDP的击穿电压数据,拟合实验测得的ACPDP显示屏内Ne+Xe混合气体的击穿电压特性曲线(Ub^pd),从而确定了击穿电压(Ub)和MgO介质保护膜有效二次电子发射系数(γeff)之间函数关系式中的相关参... 在Paschen定律基础上,使用计算出的表面放电型ACPDP的击穿电压数据,拟合实验测得的ACPDP显示屏内Ne+Xe混合气体的击穿电压特性曲线(Ub^pd),从而确定了击穿电压(Ub)和MgO介质保护膜有效二次电子发射系数(γeff)之间函数关系式中的相关参数,并由此关系研究了老炼过程对表面放电型ACPDP显示屏内MgO介质保护膜γeff的影响。结果表明,老炼开始时,击穿电压随着老炼时间的延长迅速降低,2 h后击穿电压逐渐趋于稳定。与此对应,MgO介质保护膜的γeff会随着老炼时间的延长迅速增大并在2 h后趋于稳定。当Xe的含量从0.5%升高到4%时,击穿电压会随着Xe的含量升高而升高,而γeff会随着Xe的含量升高而降低。本文使用的计算γeff的方法可以用于计算ACPDP屏内介质保护膜的γeff。 展开更多
关键词 老炼 MGO 击穿电压 有效二次电子发射系数
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稀土在35CrMoRE钢离子渗氮中的催渗作用 被引量:2
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作者 郭滨刚 景国荣 +2 位作者 谢学智 谢飞 张建林 《金属热处理》 CAS CSCD 北大核心 1996年第11期12-15,共4页
对35CrMo、35CrMoRE钢进行离子渗氮,发现稀土钢渗氮层硬度提高,层深加厚,稀土元素具有明显的催渗作用,应用稀土钢可以较好地达到深层、快速离子渗氮的目的。本文还探讨了稀土元素对离子渗氮过程的催渗作用,提出了气... 对35CrMo、35CrMoRE钢进行离子渗氮,发现稀土钢渗氮层硬度提高,层深加厚,稀土元素具有明显的催渗作用,应用稀土钢可以较好地达到深层、快速离子渗氮的目的。本文还探讨了稀土元素对离子渗氮过程的催渗作用,提出了气团─通道模型。 展开更多
关键词 稀土 离子渗氮 热处理 催渗 35CrMoRE钢
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消除彩色PDP运动图像动态假轮廓的延伸编码及优化 被引量:4
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作者 梁宁 郭滨刚 +1 位作者 刘纯亮 孙鉴 《西安交通大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第2期190-193,203,共5页
为了解决常规的线性延伸编码在消除动态假轮廓时需要子场数目多的不足 ,从动态假轮廓的成因入手 ,在常规的线性延伸编码尾部添加微调码 ,对其进行了改进和优化 ;为了维持原有的子场数目 ,引入了误差扩散技术 .仿真结果表明 ,改进后的线... 为了解决常规的线性延伸编码在消除动态假轮廓时需要子场数目多的不足 ,从动态假轮廓的成因入手 ,在常规的线性延伸编码尾部添加微调码 ,对其进行了改进和优化 ;为了维持原有的子场数目 ,引入了误差扩散技术 .仿真结果表明 ,改进后的线性延伸编码能够有效地消除动态假轮廓 ,运动图像和静止图像的相关系数为 0 8972 ,使图像显示质量大为改善 . 展开更多
关键词 彩色等离子体显示器 动态假轮廓 线性延伸编码 误差扩散 微调码 图像显示
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H_2对彩色AC-PDP中Ne-Xe混合气体放电性能的影响
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作者 魏巍 孙鉴 郭滨刚 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第3期204-206,共3页
使用AC-PDP宏放电单元测试了AC-PDP放电单元加入少量H2对Ne-Xe混合气体放电性能的影响。结果表明,Ne-Xe混合气体中加入少量H2时会显著改变AC-PDP的着火电压、维持电压和放电电流等放电性能参数。当输入电压频率一定时,着火电压和最小维... 使用AC-PDP宏放电单元测试了AC-PDP放电单元加入少量H2对Ne-Xe混合气体放电性能的影响。结果表明,Ne-Xe混合气体中加入少量H2时会显著改变AC-PDP的着火电压、维持电压和放电电流等放电性能参数。当输入电压频率一定时,着火电压和最小维持电压都会随着H2含量的变化而变化,并且着火电压和最小维持电压在某一H2含量下存在最小值;当H2含量一定时,着火电压和最小维持电压随着输入电压频率的增大而增大;在Ne-Xe混合气体中加入H2后,起始放电电流会随着H2含量的增加而增大。但是,当H2含量一定时,起始放电电流会随着输入电压频率的增加而增加,并在某一特定频率下达到最大值;当输入电压频率继续增加达到某一更高的值时,加入H2的Ne-Xe混合气体的起始放电电流反而会降低至未加入H2时相同。 展开更多
关键词 AC-PDP H2 着火电压 维持电压 放电电流
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PDP中Mg_(1-x)Ca_xO复合介质保护膜结晶取向研究 被引量:1
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作者 夏星 郭滨刚 +1 位作者 范玉锋 刘纯亮 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第5期339-342,共4页
为了研究CaO的加入对MgOPDP介质保护膜晶面择优取向的影响 ,使用不同CaO含量的MgO +CaO膜料 ,在不同的基底温度和沉积速率下进行电子束蒸发沉积 ,并对形成的Mg1-xCaxO膜进行了X射线衍射分析。结果表明 ,Ca含量越小 ,越容易形成〈111〉... 为了研究CaO的加入对MgOPDP介质保护膜晶面择优取向的影响 ,使用不同CaO含量的MgO +CaO膜料 ,在不同的基底温度和沉积速率下进行电子束蒸发沉积 ,并对形成的Mg1-xCaxO膜进行了X射线衍射分析。结果表明 ,Ca含量越小 ,越容易形成〈111〉择优取向。在选取的所有基底温度和沉积速率下 ,纯MgO和Mg0 .96Ca0 .0 4O膜都形成了〈111〉晶面择优取向 ;Mg0 .93 Ca0 .0 7O膜 ,获得最强的 (111)衍射峰 ;而Mg0 .9Ca0 .1O膜中 ,在不同的工艺下 ,分别得到 (111) ,(2 0 0 )面以及无序多晶膜。通过X射线衍射分析还发现 ,在Mg1-xCaxO膜中 ,所有〈111〉择优取向的衍射峰 2θ的位置比纯MgO向负方向移动 0 2°~ 0 7° ,而且x越大 ,这种偏移越大。 展开更多
关键词 基底温度 X射线衍射分析 结晶取向 复合介质 电子束蒸发沉积 晶面 择优取向 PDP 保护膜 沉积速率
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等离子体显示器中MgO介质保护膜结构和放电性能研究 被引量:1
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作者 夏星 范玉锋 +1 位作者 郭滨刚 刘纯亮 《北京理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第z1期247-250,共4页
为了研究等离子体显示器(PDP)中MgO介质保护膜的结构及其放电特性,通过电子束蒸发沉积,在不 同的基板温度和沉积速率下获得MgO介质保护膜,并利用X射线衍射分析及放电试验对其进行了研究.试验结 果表明:虽然各工艺下的MgO薄膜都只有(111... 为了研究等离子体显示器(PDP)中MgO介质保护膜的结构及其放电特性,通过电子束蒸发沉积,在不 同的基板温度和沉积速率下获得MgO介质保护膜,并利用X射线衍射分析及放电试验对其进行了研究.试验结 果表明:虽然各工艺下的MgO薄膜都只有(111)择优取向,但结构存在差异.少数工艺下得到的MgO的(111) 衍射峰的晶面间距变化很小,衍射峰强度较高,同时可获得最低的着火电压-132.2 V;而在其它的基板温度和 沉积速率下的MgO薄膜发生晶格畸变,(111)的晶面间距有1%以上的收缩,相应的衍射峰强度也低,而着火电 压均高于140 V.另外,较高的基板温度和沉积速率易导致MgO薄膜的晶格畸变. 展开更多
关键词 等离子体显示器 电子束蒸发 晶格畸变 着火电压
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ZrO_2掺杂及其工艺参数的对AC-PDP介质保护膜结晶取向的影响
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作者 刘柳 刘纯亮 +2 位作者 郭滨刚 范玉峰 夏星 《真空电子技术》 2004年第6期45-47,共3页
在电子束蒸发镀膜工艺条件下,掺杂含量、基板温度和蒸镀速率都会对薄膜的结晶取向产生影响。掺杂含量会影响复合膜层的晶面取向和X射线衍射峰的强度,其中ZrO2掺杂比为0 2时,能获得相对最强的(111)晶面衍射峰。而对于复合介质保护膜的制... 在电子束蒸发镀膜工艺条件下,掺杂含量、基板温度和蒸镀速率都会对薄膜的结晶取向产生影响。掺杂含量会影响复合膜层的晶面取向和X射线衍射峰的强度,其中ZrO2掺杂比为0 2时,能获得相对最强的(111)晶面衍射峰。而对于复合介质保护膜的制备工艺,则是较低的基板温度和较高的蒸镀速率条件下,更容易形成(111)的晶面取向;较高的基板温度和较低的蒸镀速率条件下,则更容易形成(200)或(220)的晶面取向。 展开更多
关键词 等离子体显示板 复合介质保护膜 氧化锆 结晶取向
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Breakdown Voltage Research of Penning Gas Mixture in Plasma Display Panel
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作者 郭滨刚 刘纯亮 +4 位作者 宋忠孝 范玉锋 夏星 刘柳 范多旺 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2005年第6期3127-3131,共5页
Paschen law and equations, which ignore the influence of the Penning ionization on the electron ionization coefficient (α), are always used as the approximation of the breakdown voltage criterion of the Penning gas... Paschen law and equations, which ignore the influence of the Penning ionization on the electron ionization coefficient (α), are always used as the approximation of the breakdown voltage criterion of the Penning gas mixture in current researches of discharge characteristics of the plasma display panel (PDP). It is doubtful that whether their results match the facts. Based on the Townsend gas self-sustaining discharge condition and the chemical kinetics analysis of the Penning gas mixture discharging in PDP, the empirical equation to describe the breakdown of the Penning gas mixture is given. It is used to calculate the breakdown voltage curves of Ne-Xe/MgO and Ne-Ar/MgO in a testing macroscopic discharge cell of AC-PDP. The effective secondary electron emission coefficients (γeff) of the MgO protective layers are derived by comparing the breakdown voltage curves obtained from the empirical equation with the experimental data of breakdown voltages. In comparison with the results calculated by the Paschen law and the equation which ignore the influence of the Penning ionization on α , the results calculated by the empirical equation have better conformity with experimental data. The empirical equation characterizes the breakdown of the Penning gas mixture in PDP effectively, and gives a convenient way to study its breakdown characteristics and the secondary electron emission behaviors. 展开更多
关键词 plasma display panel (PDP) Penning gas mixture breakdown voltage the effective secondary electron emission coefficient
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不同光环境照度下平板电脑屏幕亮度与观看适宜性主观评价实验研究
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作者 钟浩 袁安朋 +5 位作者 罗震 黎嘉诚 蔡纯 郭滨刚 蒋婷 权薇 《中国照明电器》 2024年第5期55-59,共5页
平板电脑普遍具有适宜亮度随光环境亮度自动调整的功能,不适宜的屏幕亮度容易让人眼产生视疲劳,甚至影响视觉健康。本文通过组织志愿者对不同光环境照度下平板电脑适宜亮度的眼睛适宜性主观感受适宜范围进行了研究,得出人眼在不同光环... 平板电脑普遍具有适宜亮度随光环境亮度自动调整的功能,不适宜的屏幕亮度容易让人眼产生视疲劳,甚至影响视觉健康。本文通过组织志愿者对不同光环境照度下平板电脑适宜亮度的眼睛适宜性主观感受适宜范围进行了研究,得出人眼在不同光环境照度下的可舒适观看平板电脑的适宜亮度适宜范围限值,为相关方评价平板电脑产品的显示亮度适宜性提供技术依据。 展开更多
关键词 平板电脑 屏幕显示 亮度适宜范围 视觉健康
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一种电子显示屏视觉适宜性测试装置的研制
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作者 钟浩 袁安朋 +6 位作者 罗震 黎嘉诚 蔡纯 郭滨刚 蒋婷 权薇 曹小兵 《中国照明电器》 2024年第8期119-123,共5页
为测试在不同环境光照度下人眼对电子显示屏亮度的视觉适宜性,研制团队按正常人在不同光照度环境下观看电子显示屏的实际场景,研制出一种电子显示屏视觉适宜性测试装置。该装置区别于积分球的工作原理、功能、结构。正方形试验箱内壁设... 为测试在不同环境光照度下人眼对电子显示屏亮度的视觉适宜性,研制团队按正常人在不同光照度环境下观看电子显示屏的实际场景,研制出一种电子显示屏视觉适宜性测试装置。该装置区别于积分球的工作原理、功能、结构。正方形试验箱内壁设置可前后移动平板灯,在无极调光控制器作用下,营造出不同的环境光照度。人眼和光学测量仪器通过观察窗水平等距地测验评价电子显示屏指标,实现电子显示屏的视觉适宜性测试。测试装置的研制成功,为电子显示产品领域视觉适宜性标准研究奠定硬件基础。 展开更多
关键词 电子显示屏 屏幕亮度 适宜范围 测试装置
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