离子注入技术在n型电池p-n结制备中的应用

介绍了离子注入制备n型电池p-n结的工艺原理及工艺特点,通过对n型硅片和p+发射极主要参数进行模拟分析,得到高效n型电池性能参数的范围及趋势;并对比不同离子注入剂量对n型电池p-n结方阻、implied V_(oc)及J_(0e)的影响,确定了制备高质量n型电池p-n结的离子注入剂量。

不同纳米抗污涂层对组件电性能的影响研究

本文介绍了不同厂家的纳米抗污涂层在组件玻璃表面的涂覆过程,以及其对光伏组件电性能的影响,探讨了纳米涂层与光伏玻璃的匹配性关系,提出了纳米涂层在光伏电站防污应用中的主要性能和技术要求。

纳米线超小绒面太阳电池的改进研究

多晶硅太阳电池由于晶向不一致,存在反射率较高的问题,因此,降低多晶硅太阳电池的反射率成为提高多晶硅太阳电池性能的最有效手段之一。利用硝酸银溶液作为腐蚀液,对多晶硅的表面进行处理,使得多晶硅片表面的反射率在可见光波段降低到5%左右,同时探索了利用氮化硅作为保护层,避免腐蚀液对多晶硅片背面造成损伤的方法。最后,对利用此方法制备多晶硅绒面存在的问题进行了分析,并提出了下一步的改进方案。

基于Matlab软件SiN_x/Si0_2叠层减反射膜厚度优化的研究

SiN_x/SiO_2叠层膜作为减反射钝化膜在高效太阳电池中具有广泛的应用。本文采用光学导纳特征矩阵法,利用Matlab软件对SiN_x/SiO_2叠层膜的减反射效果进行系统理论研究。首次将AM1.5G光谱、透过叠层膜到达硅片表面光子数作为衡量标准,进行减反射膜的厚度优化研究。结果表明,优化后SiN_x/SiO_2叠层膜厚度为70nm+20nm时,透过叠层膜到达硅片表面光子数最多,达到2.618×10^(17)(1/s·cm^2)。

APCVD技术在晶硅太阳电池中的应用研究

为研究APCVD制备p-n结技术在晶硅太阳电池中的应用,对APCVD的原理及实现方式进行了分析。调节温度及气体流量比例,对APCVD制备PSG进行实验对比,得出随着O_2与氢化物的比例的增大,沉积的膜厚先增大后减小,升高温度有助于加快PSG的沉积这一结论。结合APCVD的原理及实现方式对双面太阳电池制备的关键工艺高温共扩散进行方案设计,并进行相应的实验验证,完成了成品双面电池的制作,正面转换效率达到19.68%,背面转换效率为11.66%。