利用高功率脉冲和脉冲直流复合磁控溅射技术制备Zr-B-N涂层,研究沉积过程中的氮气流量和热处理温度对涂层显微结构的影响。采用电子探针显微分析仪、扫描电镜和X射线衍射仪对涂层的成分、断面形貌及结构进行观察和分析。结果表明:热处...利用高功率脉冲和脉冲直流复合磁控溅射技术制备Zr-B-N涂层,研究沉积过程中的氮气流量和热处理温度对涂层显微结构的影响。采用电子探针显微分析仪、扫描电镜和X射线衍射仪对涂层的成分、断面形貌及结构进行观察和分析。结果表明:热处理温度为600℃时,涂层表面开始形成氧化膜,部分锆离子与氧反应生成(116)晶面取向的Zr_3O;在N_2流量为6 m L/min(标准状态)时,经热处理后涂层结构仍以非晶相为主;当氮气流量为10 m L/min时,随着热处理温度升高,涂层结构逐渐变得疏松,氧化反应加剧。氮分压越高制备的涂层结构越致密,抗氧化能力越强;当热处理温度达800℃时,涂层表面开始出现裂纹,部分涂层脱离基体,严重失效。展开更多
文摘利用高功率脉冲和脉冲直流复合磁控溅射技术制备Zr-B-N涂层,研究沉积过程中的氮气流量和热处理温度对涂层显微结构的影响。采用电子探针显微分析仪、扫描电镜和X射线衍射仪对涂层的成分、断面形貌及结构进行观察和分析。结果表明:热处理温度为600℃时,涂层表面开始形成氧化膜,部分锆离子与氧反应生成(116)晶面取向的Zr_3O;在N_2流量为6 m L/min(标准状态)时,经热处理后涂层结构仍以非晶相为主;当氮气流量为10 m L/min时,随着热处理温度升高,涂层结构逐渐变得疏松,氧化反应加剧。氮分压越高制备的涂层结构越致密,抗氧化能力越强;当热处理温度达800℃时,涂层表面开始出现裂纹,部分涂层脱离基体,严重失效。