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金属硅的酸洗和氧化提纯
被引量:
14
1
作者
庞爱锁
潘淼
+2 位作者
郭生士
吴正云
陈朝
《厦门大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
北大核心
2009年第4期543-546,共4页
为了降低金属硅酸洗的后续工艺难度,在成熟的常温酸洗技术的基础上加上湿氧氧化新技术对金属硅进行提纯.酸洗主要作用是去除大部分裸露在金属硅颗粒表面的金属杂质;而湿氧氧化后,使颗粒内部分凝系数(在硅和二氧化硅系统中的分凝系数)较...
为了降低金属硅酸洗的后续工艺难度,在成熟的常温酸洗技术的基础上加上湿氧氧化新技术对金属硅进行提纯.酸洗主要作用是去除大部分裸露在金属硅颗粒表面的金属杂质;而湿氧氧化后,使颗粒内部分凝系数(在硅和二氧化硅系统中的分凝系数)较小的硼在高温下扩散进入二氧化硅中,再腐蚀去除氧化层和其中的杂质.实验表明该方法对硼杂质有明显的提纯作用,提纯后,硼杂质的含量最低为4×10-6.两种技术在工艺上兼容,在提纯目标上互补,是非常有效的低能耗和低成本的提纯方法.
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关键词
金属硅
酸洗
氧化
除硼
提纯
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职称材料
题名
金属硅的酸洗和氧化提纯
被引量:
14
1
作者
庞爱锁
潘淼
郭生士
吴正云
陈朝
机构
厦门大学物理与机电工程学院
出处
《厦门大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
北大核心
2009年第4期543-546,共4页
基金
福建省重大专项/专题项目(2007HZ0005-2)资助
文摘
为了降低金属硅酸洗的后续工艺难度,在成熟的常温酸洗技术的基础上加上湿氧氧化新技术对金属硅进行提纯.酸洗主要作用是去除大部分裸露在金属硅颗粒表面的金属杂质;而湿氧氧化后,使颗粒内部分凝系数(在硅和二氧化硅系统中的分凝系数)较小的硼在高温下扩散进入二氧化硅中,再腐蚀去除氧化层和其中的杂质.实验表明该方法对硼杂质有明显的提纯作用,提纯后,硼杂质的含量最低为4×10-6.两种技术在工艺上兼容,在提纯目标上互补,是非常有效的低能耗和低成本的提纯方法.
关键词
金属硅
酸洗
氧化
除硼
提纯
Keywords
metallurgical silicon
acid leaching
oxidation
remove boron
purification
分类号
TF114 [冶金工程—冶金物理化学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
金属硅的酸洗和氧化提纯
庞爱锁
潘淼
郭生士
吴正云
陈朝
《厦门大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
北大核心
2009
14
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