聚焦离子束(FIB)直写技术研究

简单介绍了聚焦离子束的工作原理,以及在微电子行业中的应用。具体讨论了聚焦离子束在制备纳米图形中的影响因素,包括不同的加工参数,如离子束电能量、离子束电流、驻留时间,以及不同的制备方法产生的各效应,包括再沉积、结构干涉再沉积,对结构形貌的影响,从而确定各参数在纳米图形制备过程中的应用。实验结果表明,离子束能量改变了入射离子去除材料的能力、离子束电流改变了制备图形(线、方)结构的深宽比,驻留时间的变化增加了刻蚀结构中再沉积效应。