HTM技术中细微图形成形效果的衍射理论分析与实验结果(英文)

针对使用半色调掩膜技术的TFT LCD玻璃基板曝光过程中的衍射和干涉现象进行了分析。文中给出了衍射和干涉现象的理论模型,并且对这两种现象在HTM技术中所起的作用进行了解释,尤其针对不同的狭缝宽度和狭缝间距的结构进行了分析。给出了扫描电镜的图片做为进一步的说明。

不同狭缝与遮挡条设计对TFT特性的影响与规律(英文)

通过对掩膜版上不同狭缝与遮挡条设计与TFT沟道形貌、电学特性相互关系的分析,发现随着狭缝与遮挡尺寸的减小,TFT的电学特性、沟道处光刻胶起伏与最终关键尺寸偏移量都会改善。狭缝的尺寸比遮挡条的尺寸对TFT特性的影响更加显著。考虑到沟道转角处的短路几率问题,小的狭缝与遮挡条尺寸设计更加适合于四次掩膜光刻工艺,转角处的缺陷可以通过调整遮挡条的尺寸来避免。

TFT-LCD生产及发展概况

文章简要概述了薄膜晶体管液晶显示器(thin-film transistor liquid crystal display,TFT-LCD)的发展历程,并从生产成本、屏幕解析度、亮度、视角以及功耗等多个方面阐述了国内外TFT-LCD的发展概况。