基于数值模拟的轴承座工艺改进优化

使用华铸CAE数值模拟软件分析了轴承座铸件出现的缩孔缺陷位置,与生产实践相吻合。运用数值模拟技术,对铸造工艺进行改进和优化,将改进后的铸造工艺应用于生产,既解决了铸造缺陷,又缩短了生产制造周期。同时证明在铸造生产过程中利用CAE技术是必要的、可行的。

磁控溅射制备磁性多层膜中SiO_2/Ta界面的研究

磁性多层膜常用磁控溅射的方法制备,并且以金属Ta做为缓冲层。本研究利用这种方法在单晶硅基片上沉积了Ta/NiFe/Ta薄膜。采用X射线光电子能谱(XPS)对该薄膜进行了深度剖析,并且对获得的Ta 4f和Si 2p的高分辨率XPS谱进行计算机谱图拟合分析。结果表明:磁控溅射这种高能量制膜技术导致了在SiO2/Ta界面处发生了化学反应:15SiO2＋37Ta=6 Ta2O5＋5 Ta5Si3,该反应使得界面有“互混层”存在,从而导致诱发NiFe膜(111)织构所需的Ta缓冲层实际厚度的增加。从本研究还可以看出XPS是表征磁性薄膜界面化学状态的一种有利工具。

太阳能电池光电转换膜微观结构的高分辨电镜研究

文章提出一种把薄膜或多层膜制成用透射电镜可以观察层间结构的样品的新技术。用高分辨电镜研究了太阳能电池Si—SnO2系光电转换膜的微观结构。

Nano Indenter Ⅱ纳米显微力学探针

Nano Indenter Ⅱ纳米显微力学探针是我室1994年从美国 Nano Instru-ments公司引起的,目前是国内唯一一台。它是一种新型的材料微区力学性能检测系统,它使我们能够得到距材料表面几纳米至几十微米厚或亚微米范围的力学性能。从而使我们对材料微区力学性能的研究成为可能。

剑桥S250扫描电镜控制电路部分故障分析与排除

本文主要简单介绍剑桥S250扫描电镜的控制部分的结构,分析检修方法和常见故障。

剑桥S250系列电镜故障检修

本文概要叙述了剑桥S250系列扫描电镜的维护维修实例,如常见的故障有电源部分故障、真空系统故障、继电器故障、控制单元故障、显示单元故障等等。

APD－10X光衍射仪分析操作系统改造

本文应用计算机通讯技术，成功地完成了对ＡＰＤ－１０Ｘ光衍射仪分析操作系统的改造。并开发了ＰＣ计算机对ＡＰＤ－１０分析操作系统的控制。使七十年代末的仪器水平得到提高。