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退火工艺对YIG多晶薄膜铁磁共振线宽的影响 被引量:1
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作者 金曙晨 杨青慧 +3 位作者 梅兵 饶毅恒 田晓洁 张怀武 《压电与声光》 CAS CSCD 北大核心 2015年第6期1053-1056,1060,共5页
主要研究了退火工艺对钇铁石榴石(YIG)薄膜铁磁共振线宽的影响。实验中微米级的YIG薄膜通过磁控溅射法在Gd_3Ga_5O_(12)(GGG)(111)衬底上制备,并通过750~950℃常压常规退火及750~850℃真空快速退火两种方式对薄膜进行退火晶化处理。最... 主要研究了退火工艺对钇铁石榴石(YIG)薄膜铁磁共振线宽的影响。实验中微米级的YIG薄膜通过磁控溅射法在Gd_3Ga_5O_(12)(GGG)(111)衬底上制备,并通过750~950℃常压常规退火及750~850℃真空快速退火两种方式对薄膜进行退火晶化处理。最终系统地研究了薄膜的微观晶体结构、磁性能和铁磁共振线宽性能。研究发现,经过800℃,10 min的真空快速热处理的YIG薄膜磁性能优异,其铁磁共振线宽为2 626.1 A/m@9.3GHz,阻尼系数α=2.077×10^(-3),薄膜表面粗糙度为1.9nm。 展开更多
关键词 钇铁石榴石(YIG) 快速退火 射频磁控溅射 铁磁共振线宽(FMR) 阻尼系数
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