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基于卷对卷矩形靶的溅射膜厚均匀性控制
1
作者
黄云翔
温万昱
+3 位作者
孙佳伟
槐创锋
曾海峰
钟褔回
《华南理工大学学报(自然科学版)》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2015年第11期81-86,共6页
提出一种基于卷对卷矩形靶的溅射理论模型,借助Matlab模拟仿真软件,对卷绕柔性衬底(宽度为100 mm,弯曲半径为100 mm,弯曲角为80°)的膜厚均匀性进行分析.首先,在主辊静态条件下,改变靶材几何尺寸和靶基距,研究此时膜厚均匀性误差的...
提出一种基于卷对卷矩形靶的溅射理论模型,借助Matlab模拟仿真软件,对卷绕柔性衬底(宽度为100 mm,弯曲半径为100 mm,弯曲角为80°)的膜厚均匀性进行分析.首先,在主辊静态条件下,改变靶材几何尺寸和靶基距,研究此时膜厚均匀性误差的分布情况,发现:膜厚均匀性误差随着靶材几何尺寸的变大而整体减小;随着靶基距的增大,均匀性误差的中部先增大后减小,而两边一直减小.其次,在主辊动态条件下,固定靶材几何尺寸,仅改变靶基距,研究此时膜厚均匀性误差的分布规律,发现:随着靶基距的增大,膜厚均匀性误差先增大后减小.仿真实验结果还表明,动态膜厚均匀性误差位于静态膜厚均匀性误差分布曲线Max-Min的中部极值点与该分布曲线上参考点均值之间.通过对文中模型的仿真,可以较快地预测基于卷对卷矩形靶的动态膜厚均匀性误差范围,大大减少膜厚均匀性的实验调试次数.
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关键词
矩形靶
卷对卷
真空磁控溅射
膜厚均匀性
仿真
下载PDF
职称材料
题名
基于卷对卷矩形靶的溅射膜厚均匀性控制
1
作者
黄云翔
温万昱
孙佳伟
槐创锋
曾海峰
钟褔回
机构
华南理工大学表面功能结构先进制造广东普通高校重点实验室
阳江市汉能工业有限公司铜铟镓硒(CIGS)薄膜太阳能电池研制及推广中心
出处
《华南理工大学学报(自然科学版)》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2015年第11期81-86,共6页
基金
广东省战略性新兴产业核心技术攻关项目(2012A032300009)
华南理工大学中央高校基本科研业务费专项资金资助项目(2014ZM0025)~~
文摘
提出一种基于卷对卷矩形靶的溅射理论模型,借助Matlab模拟仿真软件,对卷绕柔性衬底(宽度为100 mm,弯曲半径为100 mm,弯曲角为80°)的膜厚均匀性进行分析.首先,在主辊静态条件下,改变靶材几何尺寸和靶基距,研究此时膜厚均匀性误差的分布情况,发现:膜厚均匀性误差随着靶材几何尺寸的变大而整体减小;随着靶基距的增大,均匀性误差的中部先增大后减小,而两边一直减小.其次,在主辊动态条件下,固定靶材几何尺寸,仅改变靶基距,研究此时膜厚均匀性误差的分布规律,发现:随着靶基距的增大,膜厚均匀性误差先增大后减小.仿真实验结果还表明,动态膜厚均匀性误差位于静态膜厚均匀性误差分布曲线Max-Min的中部极值点与该分布曲线上参考点均值之间.通过对文中模型的仿真,可以较快地预测基于卷对卷矩形靶的动态膜厚均匀性误差范围,大大减少膜厚均匀性的实验调试次数.
关键词
矩形靶
卷对卷
真空磁控溅射
膜厚均匀性
仿真
Keywords
rectangular target
roll-to-roll
vacuum magnetron sputtering
film thickness uniformity
simulation
分类号
TB43 [一般工业技术]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
基于卷对卷矩形靶的溅射膜厚均匀性控制
黄云翔
温万昱
孙佳伟
槐创锋
曾海峰
钟褔回
《华南理工大学学报(自然科学版)》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2015
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