挥发性有机物的气相色谱分析研究

挥发性有机物(Volatile Organic Compounds,VOCs)是强挥发性有机化学物质的总称,挥发性有机物在常温下,是一种逸散性排放的物质,对空气和环境的污染比较严重,对人体的健康也会产生极大的威胁。挥发性有机物主要来源石油化工产品、汽车尾气、化学溶剂、涂料油漆、废物处理等等,因此对挥发性有机物的污染受到越来越多的人重视。通过利用气相色谱对空气和室内进行测量、分析、研究。

活性碳吸附富集-石墨炉原子吸收光谱法测定地球化学样品中的金元素

采用活性炭吸附分离富集，热的氟化氨铵和盐酸溶液进行淋洗解脱，以1％的抗坏血酸溶液作为基体改进剂，石墨炉原子吸收光谱法测定地球化学样品中的金元素。检出限为0．62ng／g，线性范围为0．00062～10μg／g，回收率为92．0％～103.1％。

活性碳吸附富集分离-AAS法测定硫化矿物中的金含量

试样经过焙烧除硫除砷及有机物后，用王水分解，再经活性碳吸附装置将金富集于活性碳中，干扰测定的铁离子等用热盐酸（5＋95）及热水洗脱，将富集了金的活性碳进行灰化，王水溶金，含金溶液以原子吸收分光光度法测定金含量，方法对金元素检测的准确度和精密度达到较好效果。

原生金矿细菌预氧化-氰化提金的研究

试验驯化出优良的嗜常温浸矿菌，对试验矿石适应性强，在9K培养基下生长情况良好，对试验矿石中As、Fe和S氧化率高，在15％矿浆浓度、氧化12天、无铁9K培养基、30℃条件下其脱除率达到91．3％、80．3％和86．1％，炭浆法氰化提金，金的浸出率达到58．8％。

低温加热挥发三氯氢硅-电感耦合等离子体质谱法测定三氯氢硅中痕量砷

采用电感耦合等离子体质谱法(ICP-MS)常规模式测定三氯氢硅中砷时,40 Ar35 Cl+会对75 As+的信号产生严重干扰,同时若直接进行测定,大量硅基体的存在不仅会有基体效应,也会造成对采样锥、截取锥和进样系统的堵塞,这些都给ICP-MS测定三氯氢硅中痕量砷带来了难题。实验利用石墨氮气挥三氯氢硅装置在50~90℃下对液体三氯氢硅样品进行挥发处理,以体积比为1∶1∶1∶8的氢氟酸-硝酸-过氧化氢-水为混合浸取液体对挥发后的样品残渣进行浸取,解决了因大量硅基体存在而引起的问题。同时,实验采用氢气-氦气混合碰撞/反应池模式,控制混合碰撞/反应气流速为6.0mL/min,消除了40 Ar35 Cl+对75 As+的干扰,最终实现了ICP-MS对三氯氢硅中痕量砷的测定。在优化的仪器条件下,测定砷标准系列溶液,以砷信号强度值与质量浓度进行线性回归,相关系数在0.999 0以上,方法的检出限为0.01ng/g。将实验方法应用于三氯氢硅样品中砷的测定,结果的相对标准偏差(RSD,n=11)在0.71%~7.1%之间,加标回收率为87%~105%之间。分别用微量移液器准确移取1.00、15.00μL砷标准储备溶液加入到超纯三氯氢硅中,配制成砷质量分数分别为2.00、30.00ng/g的2个三氯氢硅模拟样品,按照实验方法分别对这2个模拟样品中砷进行测定,测定值与理论值基本一致,相对误差的绝对值不大于1%。

电感耦合等离子体发射光谱法同时测定工业盐中的11种元素

建立了电感耦合等离子体发射光谱法测定工业盐中的硅、钙、镁、铁、钾、铝、钡、锶、锰、铅和镍11种杂质元素的含量。采用硝酸溶液、氢氟酸溶液和水溶解样品,采用耐氢氟酸惰性进样系统直接进样。在最佳实验工作条件下,11种杂质元素在各自的检测范围内线性关系良好,相关系数均大于0.999,方法的检出限为0.01～4.00 ng/mL。测定结果的相对标准偏差为2.35%～8.72%(n=11),样品加标回收率为88.6%～105.1%。该方法操作简便,测定结果准确、可靠,稳定性好,适用于工业盐中11种杂质元素的测定。