氩环境气压对激光烧蚀沉积纳米硅薄膜形貌的影响

采用脉冲激光烧蚀技术在氩气环境下制备了纳米硅薄膜,研究了环境气体压强对纳米硅薄膜表面形貌的影响.结果表明,当环境气压小于50Pa时,薄膜表现为常规的量子点镶嵌结构;当环境气压大于50Pa时,薄膜中出现类网状的絮结构,继续增大氩气压,絮结构逐渐增大,且其隙度增大.指出该现象与在激光烧蚀过程中纳米硅团簇的形成过程有关.

铁电薄膜及铁电存储器研究

综述了铁电薄膜以及铁电存储器的发展,讨论了铁电薄膜制备方法、结构和物理性能表征,并结合作者的前期工作,详细讨论了用于铁电薄膜与硅衬底集成的导电阻挡层问题,指出了铁电薄膜研究中需重点解决的一些问题.

基于ZigBee的温室监控系统设计

随着网络通讯技术的快速发展，物联网技术在农业领域的应用受到了社会的广泛关注。针对传统温室环境监测系统存在的不足，设计了基于ZigBee造词的温室监测系统，并阐述了信息化智能温室应用系统的体系结构控制流程和关键技术。

炭材料在铅酸蓄电池中应用研究的综述

本文综述分析了炭材料作为蓄电池负极添加剂在NAM中的作用,并举例介绍了不同炭材料的微观结构等物理性能,重点探讨了碳纳米管、石墨烯等新型炭材料的应用研究现状,介绍了石墨和炭黑联合使用的情况,并对各自的应用效果进行了归纳总结。

利用类比法学习库仑定律

库仑定律是电磁学课程中重要的定律之一.由于电荷不易于观察和测量,所以我们在学习库仑定律时,感觉比较困难.如果与万有引力定律进行类比来学习库仑定律,我们就感觉比较容易接受.在课堂上,老师就是这样由浅入深的讲解的,使我们不但对万有引力定律的理解更加深刻,同时降低了对库仑定律的学习难度.

调整靶衬间距实现纳米Si晶粒尺寸的均匀可控

采用脉冲激光烧蚀装置,在10 Pa的氩气环境下,在1～6 cm范围内调整衬底与靶的距离沉积制备了纳米Si薄膜。X射线衍射(XRD)谱和Raman谱测量均证实,纳米Si晶粒已经形成;利用扫描电子显微镜(SEM)观测了所形成的纳米Si薄膜的表面形貌。结果表明,随着靶衬间距的增加,所形成的纳米Si晶粒的平均尺寸减小(尺寸均匀性变差),在3 cm时达到最小值(尺寸分布最均匀),而后开始增大(尺寸均匀性变差)。利用蒙特-卡罗(MonteCarlo)方法,对不同靶衬间距下烧蚀产物的输运动力学过程进行了数值模拟,得到与实验结果相同的结论。

激光脉冲频率对纳米Si晶薄膜形貌的影响

在气压为10 Pa的惰性气体Ar环境下,采用XeCl准分子激光器(波长308 nm),调整激光单脉冲能量密度为4 J/cm2,激光烧蚀电阻率为3000Ω.cm的高纯单晶Si靶,在玻璃或Si衬底上沉积制备了纳米Si晶薄膜。实验中靶和衬底间距离保持为3 cm,对衬底既没有加温也没有冷却。拉曼(Raman)谱测量结果表明,所制备的薄膜中已有纳米Si晶粒形成。保持脉冲总数不变,分别取激光脉冲频率为1 Hz,3 Hz,10 Hz和20 Hz,相应沉积时间约为10 min,3.3 min,1 min和0.5 min,采用扫描电子显微镜(SEM)观察所得样品的表面形貌,不同脉冲频率下的结果比较显示,脉冲频率越大,制备的纳米Si晶薄膜的平均晶粒尺寸就越小,晶粒尺寸分布也越均匀。沉积动力学过程的非线性是导致实验出现该结果的原因。

具有窄光致发光谱的纳米Si晶薄膜的激光烧蚀制备

采用XeCl脉冲准分子激光器,在10Pa的Ar气环境下,烧蚀高阻单晶Si靶,分别在距靶3cm的玻璃和单晶Si衬底上制备了纳米Si薄膜.相应的Raman谱和x射线衍射谱均证实了薄膜中纳米Si晶粒的形成.扫描电子显微镜图像显示,所形成的薄膜呈均匀的纳米Si晶粒镶嵌结构.相应的光致发光峰位出现在599nm,峰值半高宽为56nm,与相同参数下以He气为缓冲气体的结果相比,具有较窄的光致发光谱,并显示出谱峰蓝移现象.

多功能中药微波萃取装置

中央电视台“中华医药”节目经常介绍一些中医中药知识，如松枝治愈过帕金森，中药治愈了多年的哮喘，