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基于多学科团队模式的营养结合情感支持对喉癌患者营养状况、心理状况及并发症的影响
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作者 张玲 赵大庆 +3 位作者 王析莹 党李萍 闫美菊 李宁 《中国医药导报》 CAS 2024年第14期128-130,137,共4页
目的探讨基于多学科团队(MDT)模式的营养结合情感支持对喉癌患者营养状况、心理状况及并发症的影响。方法选取2021年2月至2023年2月于空军军医大学第二附属医院耳鼻咽颈外科行喉切除术的喉癌患者80例作为研究对象,按照随机数字表法将其... 目的探讨基于多学科团队(MDT)模式的营养结合情感支持对喉癌患者营养状况、心理状况及并发症的影响。方法选取2021年2月至2023年2月于空军军医大学第二附属医院耳鼻咽颈外科行喉切除术的喉癌患者80例作为研究对象,按照随机数字表法将其分成两组,各40例。对照组给予常规护理,观察组在对照组基础上给予基于MDT模式的营养结合情感支持护理。比较两组干预前后营养状况、心理状况及并发症情况。结果干预后,两组血红蛋白、血清白蛋白及总蛋白水平均高于干预前,且观察组高于对照组(P<0.05)。干预后,两组焦虑自评量表、抑郁自评量表评分均低于干预前,且观察组低于对照组(P<0.05)。观察组术后并发症总发生率低于对照组(P<0.05)。结论基于MDT模式的营养结合情感支持应用于喉癌患者,能有效改善其营养和心理状况,并降低并发症发生率。 展开更多
关键词 喉癌 多学科团队 营养支持 正念疗法 并发症 营养状况 心理状况
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全程跟进式赋能教育对喉癌喉部分切除术后患者的影响 被引量:5
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作者 闫美菊 马萧 +1 位作者 李宁 张玲 《中国医药导报》 CAS 2023年第24期174-177,共4页
目的探讨全程跟进式赋能教育对喉癌喉部分切除术后患者的影响。方法选取2017年3月至2022年3月在空军军医大学第二附属医院接受喉部分切除术治疗的喉癌患者121例,按照随机数字表法将其分为对照组(60例)和观察组(61例)。对照组接受常规护... 目的探讨全程跟进式赋能教育对喉癌喉部分切除术后患者的影响。方法选取2017年3月至2022年3月在空军军医大学第二附属医院接受喉部分切除术治疗的喉癌患者121例,按照随机数字表法将其分为对照组(60例)和观察组(61例)。对照组接受常规护理,观察组于常规护理基础上实施全程跟进式赋能教育。比较两组吞咽功能训练依从性、吞咽功能改善情况、营养状况与生活质量。结果观察组吞咽功能训练依从性优于对照组(P<0.05);术后3个月时,两组洼田饮水试验、饮食评估量表评分均低于出院前1 d,且观察组低于对照组(P<0.05);术后3个月时,两组整体营养主观评估量表(PG-SGA)评分低于术后1 d,欧洲癌症研究和治疗组织头颈部肿瘤特异性生活质量问卷(EORTC QOL-H&N35)评分高于术后1 d,且观察组PG-SGA低于对照组,EORTC QOL-H&N35评分高于对照组(P<0.05)。结论全程跟进式赋能教育应用于喉癌喉部分切除术患者中可有效提高其吞咽功能训练依从性,进一步改善其吞咽功能、营养状况及生活质量。 展开更多
关键词 全程跟进式赋能教育 喉癌 喉部分切除术 吞咽功能 依从性
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基于原子层沉积技术制备氧化钽薄膜及其特性研究 被引量:4
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作者 明帅强 文庆涛 +3 位作者 高雅增 闫美菊 卢维尔 夏洋 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第6期6042-6047,共6页
本工作以单晶硅为衬底,乙醇钽和水分别为钽源和氧源,研究原子层沉积技术制备氧化钽薄膜的工艺,考察了乙醇钽温度、衬底温度、脉冲时间等工艺条件对氧化钽薄膜的生长速率、粗糙度和表面形貌等特性的影响。通过椭偏仪、原子力显微镜、扫... 本工作以单晶硅为衬底,乙醇钽和水分别为钽源和氧源,研究原子层沉积技术制备氧化钽薄膜的工艺,考察了乙醇钽温度、衬底温度、脉冲时间等工艺条件对氧化钽薄膜的生长速率、粗糙度和表面形貌等特性的影响。通过椭偏仪、原子力显微镜、扫描电子显微镜以及高分辨X射线光电子能谱测试分析表明,制备获得的氧化钽薄膜表面光滑,粗糙度小于1 nm,薄膜生长速率受工艺参数的影响较大,其中在乙醇钽源瓶温度170℃、脉冲时间0.1 s以及衬底温度200℃时,氧化钽的生长速率为0.253/cycle。本工作基于原子层沉积高性能氧化钽薄膜的工艺研究,将对氧化钽薄膜在介质材料、存储介质以及光学涂层等领域的应用奠定基础。 展开更多
关键词 原子层沉积 氧化钽薄膜 乙醇钽 生长速率 粗糙度
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化学气相沉积技术制备亚厘米尺寸单晶石墨烯的工艺研究 被引量:1
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作者 王延伟 卢维尔 +1 位作者 闫美菊 夏洋 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第6期1-5,共5页
本实验以多晶铜为基底,研究了利用化学气相沉积(CVD)技术制备不同尺寸的单晶石墨烯的工艺。对比了铜基底预处理方法、气体流量、压强和生长时间对单晶石墨烯尺寸及表面形貌的影响,结果表明,Ar和O2预处理可以降低石墨烯的成核密度,适当的... 本实验以多晶铜为基底,研究了利用化学气相沉积(CVD)技术制备不同尺寸的单晶石墨烯的工艺。对比了铜基底预处理方法、气体流量、压强和生长时间对单晶石墨烯尺寸及表面形貌的影响,结果表明,Ar和O2预处理可以降低石墨烯的成核密度,适当的CH4浓度便于单晶石墨烯的生长,压强的大小影响单晶的形貌,生长时间决定了单晶的尺寸。通过对预处理气体及流量、生长压强和时间等参数的调节,获得了0. 01~6 mm单晶石墨烯的可靠制备工艺。在常压101. 325 k Pa、铜基底经Ar和O2预处理、生长温度1 068℃、600 sccm H2和25 sccm CH4的气体条件下,制备出6 mm的单晶石墨烯。此外,本实验还对石墨烯制备过程中杂质颗粒的形成机理进行了研究,发现引入的杂质颗粒可能是基底Cu氧化后的结晶颗粒以及石英管在高温条件下硅的脱落。本研究所得不同尺寸单晶石墨烯的可靠制备方法为新型电子器件的发展提供了有力的支撑。 展开更多
关键词 化学气相沉积 单晶石墨烯 大尺寸
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