一种适合于大规模场景阴影绘制的分层方法

采用基于视截体分层的方法进行大规模场景阴影绘制时,需要考虑分层的合理性与阴影的图像质量。因此,提出了一种改进的视截体对数分层方法,根据各分割层与视点的距离,为每一个分割层确定一个PCF过滤核的尺寸,根据过滤核尺寸的大小,调整该层的位置,并使用PCF过滤方法提高阴影的图像质量。实验结果表明,该方法具有更好的阴影图像效果。