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AlAs/GaAs,AlAs/Si/GaAs异质结果界结构的电镜研究
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作者 金星 陈中圭 王风莲 《电子显微学报》 CAS CSCD 1993年第2期151-151,共1页
原子层掺杂(Atomic Layer Doping)可以在二极管结构中产生一种内部势垒,从而控制半导体的某些电学性能。本工作就是在GaAs衬底上MBE生长AlAs和Si。在测试过程中,我们采用大角度会聚束电子衍射(简称LACBED)和高分辨像(HREM)研究AlAs/GaAs... 原子层掺杂(Atomic Layer Doping)可以在二极管结构中产生一种内部势垒,从而控制半导体的某些电学性能。本工作就是在GaAs衬底上MBE生长AlAs和Si。在测试过程中,我们采用大角度会聚束电子衍射(简称LACBED)和高分辨像(HREM)研究AlAs/GaAs,AlAs/Si/GaAs的界面结构及失配能力。 展开更多
关键词 半导体 砷化铝 砷化镓 界面结构 电子显微镜
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