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基于转镜同步跟踪系统的研究 被引量:4
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作者 冯斌 史元元 +1 位作者 武耀霞 陈儒婷 《应用光学》 CAS CSCD 北大核心 2018年第5期600-604,共5页
为了研究高速飞行弹丸的运动姿态问题,提出转镜同步跟踪技术。在高速CCD相机主光轴方向放置一面转镜,将弹道线位置上飞行弹丸的运动姿态反射到高速CCD相机内实现同步跟踪。设计了基于高速CCD相机视场中点的转镜跟踪系统,建立了弹丸和转... 为了研究高速飞行弹丸的运动姿态问题,提出转镜同步跟踪技术。在高速CCD相机主光轴方向放置一面转镜,将弹道线位置上飞行弹丸的运动姿态反射到高速CCD相机内实现同步跟踪。设计了基于高速CCD相机视场中点的转镜跟踪系统,建立了弹丸和转镜的运动模型,并利用MATLAB软件得到了其随时间变化的曲线,分析了相机和转镜空间位置对成像质量的影响。针对参数H=200m,V=100m/s,对系统存在的误差进行了分析,结果表明该系统可以实现对高速弹丸的同步跟踪。 展开更多
关键词 转镜 CCD相机 同步跟踪 误差分析
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氢辅助脉冲直流溅射沉积的碳化硼薄膜的红外光学性质与机械性质的研究
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作者 陈儒婷 SHIGENG SONG +4 位作者 DES GIBSON LEWIS FLEMING SAM AHMADZADEH HIN ON CHU XIAOLING ZHANG 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第7期7039-7044,共6页
采用氢气为辅助气体,在不同氢气流速下用微波等离子体辅助脉冲直流磁控溅射系统制备碳化硼薄膜。碳化硼薄膜的设计厚度为1200 nm,过渡层非晶硅的设计厚度为500 nm。所用的基板为载玻片、Ge、Si、Si wafer、GaAs和JGS3。之后,采用傅里叶... 采用氢气为辅助气体,在不同氢气流速下用微波等离子体辅助脉冲直流磁控溅射系统制备碳化硼薄膜。碳化硼薄膜的设计厚度为1200 nm,过渡层非晶硅的设计厚度为500 nm。所用的基板为载玻片、Ge、Si、Si wafer、GaAs和JGS3。之后,采用傅里叶红外光谱(FT-IR),X射线衍射(XRD)、维氏硬度计(Vicker indenter),分析了氢气流速(0、3、7和10 mL/min)对碳化硼薄膜的光学性质和机械性质的影响。结果表明,氢气流速的增加,可以明显提高红外光学透过率,降低红外光光吸收率。与此同时,氢气的增加还能降低薄膜应力,使薄膜易于附着在基底上。然而,氢气也会使得碳化硼薄膜硬度降低。 展开更多
关键词 碳化硼薄膜 红外性质 机械性质
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