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题名原材料比表面积和松装密度对ITO靶材密度的影响
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作者
曾墩风
王志强
张兵
陈光园
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机构
芜湖映日科技股份有限公司
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出处
《中国金属通报》
2024年第15期182-185,共4页
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文摘
本文利用砂磨、造粒、模压成型、高温烧结一系列方法制备出In_(2)O_(3):SnO2=90:10的ITO粉体与高密度的ITO靶材,研究了In_(2)O_(3)和SnO2比表面积和ITO粉末松装密度对ITO靶材密度的影响。In_(2)O_(3)粉末比表面积采用7g/m^(2)、9g/m^(2)、10g/m^(2)、12g/m^(2),SnO2比表面积采用6g/m^(2)、8g/m^(2)、10g/m^(2)、14g/m^(2),砂磨介质氧化锆磨球采用0.3mm、0.5mm、0.8mm,进行多批次砂磨实验,采用统一烧结曲线。结果表明:当In_(2)O_(3)比表面积在12g/m^(2)左右时,SnO2比表面积在10g/m^(2)左右时,采用0.8mm氧化锆磨球砂磨,松装在1.5g/cm^(3)~1.55g/cm^(3)之间,粉末成型烧结时ITO靶材密度最高。
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关键词
氧化铟
比表面积
松装密度
ITO
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分类号
TB3
[一般工业技术—材料科学与工程]
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