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电子回旋共振等离子体沉积氮化碳(CN)膜的工艺及XPS研究 被引量：1
1
作者 张大忠 孙官清 +3 位作者 刘仲阳 陈剑 梁学才 钟光武 《四川大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 1997年第4期530-533,共4页
电子回旋共振等离子体沉积氮化碳（ＣＮ）膜的工艺及ＸＰＳ研究＊张大忠孙官清刘仲阳陈剑王宣梁学才（原子核科学技术研究所）钟光武（西南物理研究院核聚变研究所）低温低压沉积的硬质材料不仅可用于涂敷热稳定材料以改善其表面特性，... 电子回旋共振等离子体沉积氮化碳（ＣＮ）膜的工艺及ＸＰＳ研究＊张大忠孙官清刘仲阳陈剑王宣梁学才（原子核科学技术研究所）钟光武（西南物理研究院核聚变研究所）低温低压沉积的硬质材料不仅可用于涂敷热稳定材料以改善其表面特性，而且还可作为薄膜型光、电、磁器件的... 展开更多
关键词 电子回旋共振 等离子体沉积 氮化碳膜 XPS
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