全息光栅掩模制备中的光刻胶薄膜特性控制研究

本文对全息光栅掩模制备中光刻胶薄膜的应力与厚度均匀性问题进行了研究。应用干涉法及Stoney公式计算的分析结果,对SiO2基底上光刻胶薄膜的应力进行了研究。对膜厚的均匀性采用干涉显微镜在同一样品,不同直径上多点测量的方法,初步得出光刻胶薄膜膜厚均匀性的分布规律。分组变换加速度,转速,匀胶时间等参数,并对结果进行比较,发现在匀胶转速相同的前提下,光刻胶薄膜应力值随加速度的降低面减小,光刻胶薄膜的均匀性随加速度的增加而变好。在3000rpm至4000rpm的低转速时,光刻胶薄膜样品的膜厚均匀性好。出此,在全息光栅匀胶工艺中,要选择适当的转速的加速度,以得到应力较小和均匀性较好的光刻胶薄膜。与此同时,薄膜膜厚均匀性呈现出中间薄,边缘较厚的规律。

全息光栅掩模应力控制研究

通过干涉法并应用Stoney公式计算的结果,对SiO2基底上光刻胶薄膜的应力进行了研究。采用干涉显微镜在同一样品、不同直径上多点测量的方法,初步得出光刻胶薄膜膜厚均匀性的分布规律。发现在匀胶转速相同的前提下,光刻胶薄膜应力值随加速度的降低而减小,光刻胶薄膜的均匀性随加速度的增加而变好。在4 000 rpm的低转速时,光刻胶薄膜样品的膜厚均匀性好。因此,在全息光栅匀胶工艺中,要选择适当的转速的加速度,以得到应力较小和均匀性较好的光刻胶薄膜。

一种凸面光栅Offner结构成像光谱仪的设计方法

介绍了一种新型凸面光栅结构成像光谱仪的设计方法。指出在这种系统中存在一个消除了3次和5次像差的环视场。采用低空间频率的凸面光栅(177线/毫米),它仍是一个具有高光谱分辨率(2.1nm)的系统。提出了一种新的设计方法,运用一个简单的方程可以设计出系统中具有最小畸变的环视场;一个非光学专业的设计者可以达到理想的设计目的。这种成像光谱仪结构非常简单,很容易实现小型化和轻型化。实验的结果与理论分析相一致。

MBSE在光刻系统校准仿真中的应用

随着光刻系统复杂程度的提升,传统基于文档的系统开发方法,在保持设计文档间一致性及变更影响分析的困难程度也越发提升.特别是光刻系统涉及不同学科的工程模型,这些模型在文档载体中,不能完整得体现整个系统模型的设计结果.故本文采用基于模型的系统工程MBSE开发方法建立数字系统模型弥补传统方法存在的问题.文中采用的建模语言为SysML、使用Cameo System Modeler作为开发工具.以光刻系统中的校准模块为例,描述了MBSE在光刻系统校准仿真中的应用.

亚微米光栅的制作和零级衍射效率滤波特性的验证

从亚微米光栅的特点出发,分析了应用于防伪技术领域的亚微米光栅的各项关键制作技术和特点,制作了具有零级衍射效率滤波特性和用于光变色防伪的亚微米光栅,光栅零级衍射效率滤波特性的测量结果与使用耦合波理论计算得到的结果是完全一致的。由此可以根据防伪技术所需要的滤波特性设计亚微米光栅的参数。