横向泵浦脉冲染料激光的偏振

偏振是激光束的一个重要参数,能对激光与物质相互作用的物理过程和化学过程产生影响。染料激光器能提供高功率、窄谱线线宽的可调谐光束,在研究和开发中应用广泛。但是,有机染料溶液内激活分子的光学各向异性会使激光具有偏振或部分偏振特性,这一事实在器件和使用中必须注意。

酞菁铜薄膜的光记录特性

研究了有机染料酞菁铜（ＣｕＰｃ）真空蒸镀薄膜在可见及近红外区域的吸收光谱和光学常数，发现酞菁铜薄膜在５５０～７５０ｎｍ波长范围内具有较强的吸收．在静态测试仪上测试了酞菁铜薄膜的光存储记录特性，发现用低功率氦氖激光辐照样品时薄膜反射率变化较大．在酞菁记录层上覆盖金属反射层将提高写入激光的阈值能量并且增大反射率的对比度．

酞菁钴薄膜的折射率及吸收特性

通过真空镀膜法在单晶硅片上制备了酞菁钴（ＣｏＰｃ）薄膜。

酞菁铜薄膜的折射率及吸收特性

通过真空镀膜法在单晶硅片上制备了酞菁铜（ＣｕＰｃ）薄膜，在波长扫描和入射角可变全自动椭圆偏振光谱仪上研究了ＣｕＰｃ薄膜的椭偏光谱并分析了其电子结构。

有机薄膜光盘的微区结构

通过光学显微镜（OM），扫描电镜（SEM）和扫描隧道显微镜（STM）观察了光记录有机薄膜的微区结构。从微区结构的形貌可以看出光记录后酞菁薄膜上产生了鼓泡。通过这些观察方法的比较发现扫描隧道显微镜可以提供更加详细、精确的三维参数。薄膜的微区结构研究对于分析光盘的性能、了解记录机理具有重要意义。

一种菁染料－聚合物薄膜的光存存储性能

用旋涂法制备了一种菁染料－聚合物薄膜，并研究了该染料－聚合物薄膜的光谱性质和光存储性能。该染料薄膜在６６０～８３０ｎｍ波段有较强的吸收和２０％以上的反射率。在最佳实验条件下，获得了５８ｄＢ的信噪比。信噪比（ＣＮＲ）。

一种用于光存贮的酞菁薄膜

本文研究了金属取代酞菁衍生物（ＭＰｃ）真空蒸镀薄膜在可见及近红外区域的吸收光谱和光学常数。以该酞菁薄膜作为记录介质的５．２５″光盘的动态特性测试表明，载噪比（ＣＮＲ）大于４３ｄＢ。

光记录酞菁薄膜

本文研究了酞菁薄膜在红外区域的吸收光谱，报导了该酞菁薄膜的光记录特性．

光存储酞菁薄膜的加速老化研究

采用加速老化试验对光存储酞菁薄膜进行了寿命研究，以反射率的变化作为试验的判断依据。在５５℃，８５％ＲＨ；６５℃，８５％ＲＨ和７５℃，８５％ＲＨ的条件下，测试了反射率随时间的变化关系，用外推法估算出光存储酞菁薄膜的自然寿命。

酞菁染料薄膜的光存贮特性

本文研究了酞菁分子结构与光存贮性能的关系，给出作用在酞菁薄膜上的激光功率和辐照时间，其阈值随酞菁分子侧链的增长而增加的特性。

旋涂法制备可溶性酞菁薄膜的光存储性能研究

研究了烷基取代的可溶性金属酞菁化合物Ｐｒ４ＭＰｃ／ＰＭＭＡ的ＤＩＰ薄膜的光谱特性和光存储性能．研究表明，该薄膜在可见光波段有优良的吸收和反射特性，以该薄膜作记录介质的５″光盘的静态测试显示其反射对比度大于３５％，动态测试信噪比大于４０ｄＢ。

光记录有机薄膜的扫描隧道显微镜研究

运用扫描隧道显微镜（ＳＴＭ）观察了光记录有机薄膜的微观结构。从微观结构的形貌可以看出光记录后酞菁薄膜上产生了鼓泡。不同能量的激光脉冲产生具有不同细微结构的鼓泡，光盘的性能与鼓泡的尺寸密切相关。研究结果说明ＳＴＭ是研究光盘微观结构的有力工具。

铜蒸气激光器窗口污染实验研究

提出铜蒸气激光器窗口污染主要是由放电管中钻电极的溅射以及金属钢原子的热扩散引起。对１０Ｗ的国产器件，当连续运转１００ｋｗｈ后，窗口透过率由８０％下降至６５％左右，同时用化学方法测得吸附于器件富片内表面沾污层中钻铜含量比为３：１。另外，还讨论了窗口沾污对器件输出功率等因素的影响。最后，实验采用加长器件阳极端部管长的方式减少沾污，并得到了实际应用。