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金属诱导法制备多晶硅薄膜的研究进展 被引量:8
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作者 蔡捷宏 姚若河 +2 位作者 陈明鑫 许佳雄 陈岳政 《轻金属》 CSCD 北大核心 2006年第11期48-50,共3页
多晶硅薄膜材料已广泛应用于太阳能电池和集成电路制造等领域。本文综述了金属诱导非晶硅薄膜进行低温晶化的研究,讨论了金属诱导法的晶化机理,分析了金属诱导晶化过程中的主要影响因素,对不同的金属诱导法进行比较,展望了金属诱导法的... 多晶硅薄膜材料已广泛应用于太阳能电池和集成电路制造等领域。本文综述了金属诱导非晶硅薄膜进行低温晶化的研究,讨论了金属诱导法的晶化机理,分析了金属诱导晶化过程中的主要影响因素,对不同的金属诱导法进行比较,展望了金属诱导法的进一步发展。 展开更多
关键词 多晶硅薄膜 金属诱导 低温晶化
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