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腔面镀膜对1342nm分布反馈半导体激光器输出功率的影响
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作者 张煜俊 闫长春 +4 位作者 陈建抗 赵春龙 罗帅 徐鹏飞 李璇 《红外》 CAS 2022年第11期26-32,共7页
为提高1342 nm分布反馈(Distributed Feedback,DFB)半导体激光器的输出功率,设计了三种腔面膜膜系组合。采用电子束蒸发镀膜技术对该激光器进行了腔面镀膜,并测试了其在三种膜系组合下的输出功率。结果表明,采用增透膜为基底(Sub)/Al_(2... 为提高1342 nm分布反馈(Distributed Feedback,DFB)半导体激光器的输出功率,设计了三种腔面膜膜系组合。采用电子束蒸发镀膜技术对该激光器进行了腔面镀膜,并测试了其在三种膜系组合下的输出功率。结果表明,采用增透膜为基底(Sub)/Al_(2)O_(3)/Ta_(2)O_(5)/空气(Air)、高反膜为Sub/(Al_(2)O_(3)/Si)^(3)Al_(2)O_(3)/Air的腔面膜膜系组合时,激光器的输出功率最高。前腔面反射率为0.2%,后腔面反射率为98.6%。在260 mA的直流电流下,平均输出功率达到了85 mW以上(增加了85.6%),斜率效率提升了82.9%。通过采用此膜系组合进行激光器腔面镀膜,可以大幅提升1342 nm DFB半导体激光器的输出功率。 展开更多
关键词 1342nm 分布反馈 腔面镀膜 输出功率
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