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NaOH处理对石墨烯电学性能的影响 被引量:1
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作者 汤春苗 陈志蓥 +4 位作者 朱博 张浩然 张亚欠 曹一江 于广辉 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2015年第1期133-138,共6页
在CVD石墨烯的转移过程中无法避免会出现胶残留,导致了材料不必要的p型掺杂。研究表明,通常来自这种残余胶的p型掺杂影响了石墨烯的电学特性。本文发现NaOH溶液能够有效地去除这种PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯(C5H8O2)x)中的含氧官能团,减少... 在CVD石墨烯的转移过程中无法避免会出现胶残留,导致了材料不必要的p型掺杂。研究表明,通常来自这种残余胶的p型掺杂影响了石墨烯的电学特性。本文发现NaOH溶液能够有效地去除这种PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯(C5H8O2)x)中的含氧官能团,减少胶残留,并首次将其运用在CVD生长的石墨烯单层薄膜上。通过不同浓度NaOH溶液的选择,我们有效地解决了NaOH与SiO2/Si衬底反应的问题。处理结果显示,通过NaOH溶液浸泡石墨烯的载流子浓度变为原来的三分之一甚至更少,而且处理效果最明显的石墨烯样品的迁移率从880cm2/Vs升高到2260cm2/Vs。同时我们比较了水和NaOH处理效果的稳定性,结果显示用水处理的样品迁移率很快回到了处理前的数据,而用NaOH溶液处理的石墨烯薄膜迁移率最终稳定在原有迁移率的1.5倍。 展开更多
关键词 石墨烯 迁移率 PMMA NAOH
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Graphene/Mo2C heterostructure directly grown by chemical vapor deposition
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作者 邓荣轩 张浩然 +7 位作者 张燕辉 陈志蓥 隋妍萍 葛晓明 梁逸俭 胡诗珂 于广辉 姜达 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第6期444-448,共5页
Graphene-based heterostructure is one of the most attractive topics in physics and material sciences due to its intriguing properties and applications. We report the one-step fabrication of a novel graphene/Mo2C heter... Graphene-based heterostructure is one of the most attractive topics in physics and material sciences due to its intriguing properties and applications. We report the one-step fabrication of a novel graphene/Mo2C heterostructure by using chemical vapor deposition(CVD). The composition and structure of the heterostructure are characterized through energydispersive spectrometer, transmission electron microscope, and Raman spectrum. The growth rule analysis of the results shows the flow rate of methane is a main factor in preparing the graphene/Mo2C heterostructure. A schematic diagram of the growth process is also established. Transport measurements are performed to study the superconductivity of the heterostructure which has potential applications in superconducting devices. 展开更多
关键词 graphene/Mo2C heterostructure CVD methane flow rate SUPERCONDUCTIVITY
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石墨烯晶畴尺寸的可控生长及其对材料电学性能的影响
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作者 吴渊文 张燕辉 +2 位作者 陈志蓥 王彬 于广辉 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 北大核心 2012年第4期309-313,共5页
采用化学气相沉积技术(CVD)在铜箔衬底上实现了石墨烯单晶畴的可控生长,并用两步生长法制备了不同单晶畴尺寸的多晶石墨烯连续膜。利用光学显微镜和拉曼光谱仪对石墨烯的形貌和结构进行了表征。通过对转移到SiO2衬底上石墨烯连续膜的霍... 采用化学气相沉积技术(CVD)在铜箔衬底上实现了石墨烯单晶畴的可控生长,并用两步生长法制备了不同单晶畴尺寸的多晶石墨烯连续膜。利用光学显微镜和拉曼光谱仪对石墨烯的形貌和结构进行了表征。通过对转移到SiO2衬底上石墨烯连续膜的霍尔测试发现,石墨烯晶畴尺寸变化对其连续膜的电学性能影响显著。石墨烯连续膜的晶畴尺寸越大,其方块电阻越小,载流子迁移率越高。 展开更多
关键词 石墨烯 单晶 化学气相沉积 拉曼 电学性质
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蓝宝石衬底上NaOH辅助CVD法制备有序单层MoS2条带 被引量:1
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作者 胡诗珂 李晶 +12 位作者 展肖依 王爽 雷龙彪 梁逸俭 康鹤 张燕辉 陈志蓥 隋妍萍 姜达 于广辉 彭松昂 金志 刘新宇 《Science China Materials》 SCIE EI CSCD 2020年第6期1065-1075,共11页
本文报道了一种在蓝宝石衬底上NaOH辅助化学气相沉积(CVD)生长有序排列单层MoS2条带的方法.MoS2条带具有优良的单晶性,其载流子迁移率为~150 cm^2V^-1s^-1,在550 nm波长下的光学响应为103 mA W^-1.单层MoS2条带在蓝宝石衬底上具有两种... 本文报道了一种在蓝宝石衬底上NaOH辅助化学气相沉积(CVD)生长有序排列单层MoS2条带的方法.MoS2条带具有优良的单晶性,其载流子迁移率为~150 cm^2V^-1s^-1,在550 nm波长下的光学响应为103 mA W^-1.单层MoS2条带在蓝宝石衬底上具有两种生长方式,其中一种为受层间范德华力以及晶格影响的取向生长,另一种为受蓝宝石台阶约束的平行生长.NaOH的引入量对MoS2形态与取向起重要作用,可以实现从取向性三角形晶畴,受衬底晶格影响的取向MoS2条带,受衬底台阶约束的平行条带,再到大尺寸杂乱取向三角形晶畴的连续可调.本文的结果有利于推动MoS2的基础研究及器件应用,也为合成其他一维和二维纳米结构开辟了新途径. 展开更多
关键词 MOS2 aligned ribbons vapor-liquid-solid step EPITAXY
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通过亚甲基蓝表面修饰实现对生长在铂上的石墨烯的无损可视化
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作者 康鹤 张燕辉 +11 位作者 吴云 胡诗珂 李晶 陈志蓥 隋妍萍 王爽 赵孙文 肖润涵 于广辉 彭松昂 金智 刘新宇 《Science China Materials》 SCIE EI CAS CSCD 2022年第10期2763-2770,共8页
对石墨烯质量的高效大规模的无损检测是推进其生长研究和实际应用的关键.在这里,我们报告了一种非常简单的方法:用普通的光学显微镜来直接观测生长在铂上的石墨烯的形貌和缺陷.该工艺通过亚甲基蓝(MB)对在铂上的石墨烯进行修饰来实现.... 对石墨烯质量的高效大规模的无损检测是推进其生长研究和实际应用的关键.在这里,我们报告了一种非常简单的方法:用普通的光学显微镜来直接观测生长在铂上的石墨烯的形貌和缺陷.该工艺通过亚甲基蓝(MB)对在铂上的石墨烯进行修饰来实现.由于石墨烯和铂表面的化学活性不同,MB在石墨烯和铂表面的吸附和反应也不同.通过对比光学图像中的颜色,我们可以观测到石墨烯晶畴和缺陷的分布.此外,该表征方法对铂衬底和石墨烯均无明显损伤,不影响衬底的再利用和石墨烯的后续表征或应用.我们的工作为大规模检测生长在铂上的石墨烯的质量提供了一种非破坏性的方法,也为其他检测二维材料的质量和掺杂情况提供了参考. 展开更多
关键词 表面修饰 石墨烯 二维材料 光学图像 非破坏性 无损检测 明显损伤 化学活性
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A comparative study of Ge/Au/Ni/Au-based ohmic contact on graphene
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作者 闵文超 孙浩 +4 位作者 张祁连 陈志蓥 张燕辉 于广辉 孙晓玮 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2014年第5期139-142,共4页
Superior graphene-metal contacts can improve the performance of graphene devices. We report on an experimental demonstration of Ge/Au/Ni/Au-based ohmic contact on graphene. The transfer length method (TLM) is adopte... Superior graphene-metal contacts can improve the performance of graphene devices. We report on an experimental demonstration of Ge/Au/Ni/Au-based ohmic contact on graphene. The transfer length method (TLM) is adopted to measure the resistivity of graphene-metal contacts. We designed a process flow, which can avoid residual photoresist at the interface of metal and graphene. Additionally, rapid thermal annealing (RTA) at different temperatures as a post-processing method is studied to improve graphene-metal contact. The results reveal that the contact resistivity of graphene and Ge/Au/Ni/Au can reach 10^-5 Ω· cm^2 after RTA, and that 350 ℃ is optimum annealing temperature for the contact of graphene-Ge/Au/Ni/Au. This paper provides guidance for fabrication and applications of graphene devices. 展开更多
关键词 ohmic contact GRAPHENE ANNEAL
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