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S1818光刻胶工艺实验研究
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作者 陈永祚 史孔玉 《集成电路通讯》 2003年第1期14-15,共2页
详细介绍了对S1818光刻胶进行实验的数据及分析过程,总结出适合我所光刻系统的S1818光刻胶工艺参数。
关键词 S1818 光刻胶工艺 胶厚 曝光指数 滴胶工艺 工艺参数
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光刻工艺的实践与提高
2
作者 陈永祚 陈晓晨 《集成电路通讯》 2000年第1期1-3,共3页
关键词 极限分辨率 光刻机 光刻工艺
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