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国产苏州瑞红RZJ304光刻正胶应用工艺研究
1
作者
陈相逢
李娟
+1 位作者
冯婷婷
吴海涛
《产业与科技论坛》
2012年第4期76-77,共2页
本文以国产瑞红RZJ304正胶为载体,基于光刻工艺环节中各工艺参数要求,以线宽1、2、5微米的叉指电极为标准,重点研究各工艺参数如曝光强度、曝光时间以及显影时间等关键因素对光刻效果的影响程度;以此表征该类型光刻胶良好的光刻效果,为...
本文以国产瑞红RZJ304正胶为载体,基于光刻工艺环节中各工艺参数要求,以线宽1、2、5微米的叉指电极为标准,重点研究各工艺参数如曝光强度、曝光时间以及显影时间等关键因素对光刻效果的影响程度;以此表征该类型光刻胶良好的光刻效果,为后续实际器件加工与应用奠定基础。
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关键词
光刻工艺
正胶
叉指电极
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职称材料
题名
国产苏州瑞红RZJ304光刻正胶应用工艺研究
1
作者
陈相逢
李娟
冯婷婷
吴海涛
机构
济南大学材料科学与工程学院
出处
《产业与科技论坛》
2012年第4期76-77,共2页
基金
济南大学教学研究项目(JZC1103)
山东省自然科学基金青年基金(No.ZR2011EMQ005)资助
文摘
本文以国产瑞红RZJ304正胶为载体,基于光刻工艺环节中各工艺参数要求,以线宽1、2、5微米的叉指电极为标准,重点研究各工艺参数如曝光强度、曝光时间以及显影时间等关键因素对光刻效果的影响程度;以此表征该类型光刻胶良好的光刻效果,为后续实际器件加工与应用奠定基础。
关键词
光刻工艺
正胶
叉指电极
分类号
TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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作者
出处
发文年
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1
国产苏州瑞红RZJ304光刻正胶应用工艺研究
陈相逢
李娟
冯婷婷
吴海涛
《产业与科技论坛》
2012
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