数字灰度光刻成像物镜设计

为了研究数字灰度光刻成像系统中栅格效应对像质的影响.在成像系统优化参量已有的研究基础上,综合考虑工作效率、光刻准确度、加工制造成本等因素,设计了一种能够有效消除数字灰度光刻成像栅格效应的光刻物镜.此光刻物镜技术指标为,数值孔径NA=0.3,工作波长λ=442nm,倍率10×,分辨率R≤1.2μm,焦深4μm,且镜片数量少,光学加工、光学校装公差要求低.结果表明,该镜头完全满足数字灰度光刻高质量成像的需要.

用DMD灰度曝光法产生连续面形微结构

利用空间光调制器光强的精确调制作用,把数字微反射镜阵列(DMD)作为灰度图形发生器,经一次曝光及优化显影等后处理过程,可制作出具有连续面形的微光学元件。用上述方法在实验上获得了微透镜阵列,并有较好的连续面形,符合预期效果。研究表明,该方法不仅可快速地实现连续面形微结构的加工,而且大大简化了制作工艺,有助于降低微光学元件的加工成本,适合于微结构的研究性制作或小批量生产,有广泛应用潜力。

消除数字光刻像素栅格衍射影响的研究

提出用优化成像系统设计参量的方法有效消除基于数字微镜阵列的栅格结构及其衍射对微结构成像质量的影响．模拟结果表明，当照明光源的波长为0．365μm，系统的数值孔径为0．3左右，缩小倍率为10-20×时，栅格像的可见度在0．1以下，DMD的栅格结构对成像质量的影响大幅降低；对微透镜的成像分析发现，合理的成像系统结构参量能有效地减少栅格的影响．如果结合DMD显示图形的可编程特点，优化图形的结构或灰度，则能在像面获得较理想的曝光量分布，达到快速加工二维和三维微结构的目的．实验结果证实了优化系统参量可有效消除DMD栅格的影响．

大面积拼接光栅的远场衍射分析

针对大面积光栅制作过程易出现的拼接偏差问题,基于标量衍射理论推导拼接光栅远场衍射的光强分布,计算分析几种常见拼接误差对拼接光栅性能的影响,以确定光栅拼接过程的误差容限.研究表明:拼接光栅的远场衍射光场随纵向和横向平移误差的变化呈周期性,且这两种平移误差带来的影响可相互补偿;而拼接光栅的旋转误差对远场衍射光场分布的影响较严重,当旋转误差增大到9.5875×10-5度时,衍射光场的峰值光强降为0.9,且两光栅各自峰值出现的方向成9.5875×10-5度.

用灰度曝光技术改善数字光刻图形轮廓

基于空间光调制器(SLM)数字光刻技术可用于IC掩模制作或直接作为微结构的加工工具,但用数字投影光刻系统加工某些结构的二元图形时,往往难以获得预期的图形轮廓,即图形边缘处有一定畸变,特别是较低缩小倍率时。本文提出优化设计图形边缘灰度的方法来校正光刻图形的畸变。文中分析了数字光刻制作这些二元光刻图形时空间像畸变产生的物理机制,详细讨论了设计图形边缘灰度优化的规则,并以加工圆孔滤波器为例,模拟了它的数字光刻成像过程。结果表明,设计图形的边缘采用灰度曝光可使其空间像畸变减小约8个百分点,光场分布更为均匀。数字灰度曝光技术简单易行,可为改善光刻图形质量提供了新途径。

用改进曝光模型模拟厚胶显影轮廓

考虑厚胶曝光过程中非线性因素的影响及其显影特点,用一套随抗蚀剂厚度发生变化的曝光参数改进的Dill曝光模型,仿真厚层抗蚀剂光刻过程,并比较新曝光模型与原有Dill模型模拟的结果差异。模拟显示,用新曝光模型获得的厚抗蚀剂显影轮廓与实验结果吻合较好;并对厚胶光刻成像机理进行了讨论。通过分析正性厚层抗蚀剂AZ4562的显影轮廓,给出其显影线宽及边墙陡度随显影时间的变化规律,提出应以获得最大边墙陡度作为优化显影时间的思想。对厚度5μm和15μm的抗蚀剂,经计算,可获得良好的抗蚀剂浮雕轮廓的优化显影时间分别为98s和208s。

抗蚀剂AZ4562曝光参数的变化趋势分析

针对厚胶曝光参数随不同光刻胶厚度及工艺条件变化的特点,在原有Dill曝光模型基础上,建立了适合于描述厚胶曝光过程的增强Dill模型,并将统计分析的趋势面法引入到厚胶曝光参数变化规律的研究中,给出了厚胶AZ4562曝光参数随胶厚及工艺条件的变化趋势,为开展厚胶光刻实验研究和曝光过程模拟提供指导性依据。

通心络胶囊治疗冠心病心绞痛临床疗效观察

目的对通心络胶囊治疗冠状动脉缺血性心脏病的临床药效进行评价。方法155例冠心病心绞痛病例随机分为观察组(n=76)和对照组(n=79)。两组病例均据病情常规调脂、降压、抗心绞痛药物治疗,治疗组加服通心络胶囊。两组疗程均20d作为分析终点,比较治疗前后两组患者的总有效率,心电图有效率,高脂血症降低情况及不良反应。结果通心络组显效43例(54.4%),有效32例(40.5%),总有效率为94.9%;对照组显效32例(42.1%),有效24例(31.6%),总有效率为73.7%;通心络组总有效率明显优于对照组(P<0.05)。结论临床应用通心络胶囊治疗冠心病心绞痛安全有效。

眼用微乳地塞米松的含量测定和稳定性研究

目的:建立HPLC测定地塞米松磷酸钠眼用微乳含量的方法并对其进行稳定性研究。方法:采用HPLC测定地塞米松磷酸钠眼用微乳的含量,同时对其进行稳定性研究。结果:地塞米松磷酸钠眼用微乳的含量符合规定,初步稳定性表明该制剂稳定。结论:地塞米松磷酸钠眼用微乳符合质量控制要求;HPLC法简便、快捷、灵敏,可作为其质量控制的有效方法。

冠心益寿丸(浓缩丸)的提取工艺研究

目的确定冠心益寿丸(浓缩丸)的最佳提取工艺。方法采用正交试验法,参照《中华人民共和国药典》2015年版一部的相关规定,采用薄层色谱法对醇提物中丹参、白芍的有效成分及水提物中当归、山楂的有效成分鉴别,优选冠心益寿丸醇提及水提工艺。结果在综合考虑醇提中丹参和白芍主要有效成分含量的情况下选取加60%乙醇水8倍量在80℃条件下提取1 h作为醇提的最优工艺条件;选取加水8倍量,每次提取1 h,共提取2次作为水提的最优工艺条件。

冠心益寿丸的质量标准研究

目的建立冠心益寿丸的质量标准。方法采用TLC法对方中丹参、白芍、葛根进行定性鉴别,采用HPLC法对丹参酮ⅡA、葛根素的含量进行测定。结果该制剂中的丹参、白芍、葛根均可用TLC法检出,且空白无干扰;含量测定的阴性对照无干扰,且稳定性、精密度、重现性等指标均符合含量测定的要求。结论本实验方法操作简便,结果准确,重现性好,可作为冠心益寿丸的质量检验标准。

中医药治疗石淋病研究进展

在中医学中,泌尿系结石归属于“石淋”这一范畴,其为泌尿外科中一种十分普遍的疾病。通过对近年来中医药治疗泌尿系结石研成果进行了阐述,为临床治疗提供参照与借鉴。

四时感冒冲剂的制备及质量控制

目的:制备四时感冒冲剂并建立其质量控制方法。方法:采用薄层色谱法鉴别连翘、牛蒡子。结果:薄层色谱能明显检查连翘、牛蒡子。结论:本制剂组方合理、制备工艺简便可行,质量稳定可控。

抗咽炎合剂改良配方的临床观察

目的:观察改良配方的抗咽炎合剂的临床疗效。方法:分为急性咽炎与慢性咽炎2组,2组内再按随机双盲法分为治疗组与对照组,治疗组采用删除扑尔敏的抗咽炎合剂治疗,对照组采用原配方抗咽炎合剂治疗,停药后观察疗效。结果:经过治疗后,治疗组治疗急性咽炎的总有效率为93.55%,对照组治疗急性咽炎总有效率为93.94%;治疗组治疗慢性咽炎的总有效率为93.02%,对照组治疗慢性咽炎总有效率为86.96%,2组有效率差异均无统计学意义(P>0.05)。结论:删除扑尔敏的抗咽炎合剂治疗急性咽炎和慢性咽炎的疗效与原配方抗咽炎合剂疗效一致。

一种适用于数字微镜无掩模光刻的图形拼接方法

针对数字投影光刻技术大面积图形曝光的需求,提出了一种基于灰度模板调制的图形拼接方法,包括图形分割、模板设计、子图形灰度调制、子图形曝光4个步骤。图形曝光前,需要将曝光图形分割为多帧大小为1024pixel×768pixel的多个子图形,然后每个子图形与对应模板相乘,实现曝光子图形的预处理。基于数字微镜(DMD)对灰度图形的调制原理,设计了可行的边界灰度调制模板。给出了图形分割的基本方法以及模板设计的原则。计算机仿真实验展示了图形拼接的过程。实验结果表明,该方法能较好地解决大面积图形曝光存在的拼接问题,改善了图形刻蚀的质量。

基于光闸叠栅条纹的纳米检焦方法

针对投影光刻机短波长、大数值孔径、短焦深的特点,讨论了一种基于光闸叠栅条纹的纳米检焦方法。该方法采用三角测量的基本原理,利用双光栅光闸叠栅条纹的光强调制机理,并结合像横向剪切器和光弹调制的光学特性,建立了单个光栅周期内焦面位移量和输出光能量线性关系。其具有非接触、强实时性和高稳健性的特点,经理论分析和模拟测试,达到纳米量级的检测精度,可以满足投影光刻高精度、实时、非接触焦面测量的要求。

用DMD光学再现全息图的研究

构建了以电荷耦合器件(CCD)为全息记录设备,数字微反射器(DMD)为光学再现设备的数字全息系统.从计算全息图和CCD记录全息图两个方面研究了用DMD光学再现物光场.实验结果表明两种情况下DMD都能很好地再现出物光场,计算机制全息图的再现像质量要比CCD记录全息图的要好些.对CCD直接记录的全息图进行边缘锐化后,其再现像的对比度增强,再现质量得到显著改善.这些实验结果有利于该技术应用于实时干涉计量等工程领域,具有潜在的实用前景.

一种数字光栅无掩模光刻对准方法

针对数字微反射镜装置(DMD)无掩模光刻系统,提出并研究了一种数字光栅无掩模光刻对准方法,将硅片的微位移放大显示在数字光栅与硅片物理光栅叠加产生的叠栅条纹中。建立了基于DMD的数字光栅无掩模光刻对准模型,设计了对准标记以及具体的实现方案,并对模型进行了数值仿真和初步的实验验证。结果表明,采用频率可变、图像干净、具有良好周期性结构的数字光栅代替传统的真实掩模光栅,真正实现了零掩模成本;并且采用变频率数字光栅可以扩大测量范围,减小位移测量误差。最终可以实现深亚微米的对准精度,满足目前无掩模光刻对准精度的要求。

光子筛成像技术研究进展

光子筛是一种新型的纳米成像元件,具有高分辨、质量轻、体积小及易复制的优点,对于成像系统轻量化以及极短波谱区成像具有重要意义。根据解决的具体问题对国内外光子筛研究成果进行分类,从成像对比度的增加、衍射效率的提高、宽光谱成像和高数值孔径光子筛设计等方面详细介绍了光子筛的发展现状,并针对这四方面研究内容分析了目前尚需解决的技术问题。这些问题仍然是今后光子筛研究的主要方向。指出光子筛实用化面临的其他客观存在的问题,并展望了光子筛在天文望远镜、显微镜和光刻等领域的应用前景。