期刊文献+
共找到21篇文章
< 1 2 >
每页显示 20 50 100
衬底温度对共蒸发制备GaSb多晶薄膜性质的影响 被引量:2
1
作者 隋妍萍 阮建明 +3 位作者 李涛 蔡宏琨 何炜瑜 张德贤 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第5期1115-1119,共5页
采用共蒸发的方法在玻璃衬底上制备出GaSb多晶薄膜材料。研究了薄膜生长速率与衬底温度、Ga源温度和Sb源温度的关系。通过XRD、UV-Vis、Hall效应和AFM等测试方法,研究了衬底温度对于GaSb薄膜的结构特性、光电性质以及表面形貌的影响。G... 采用共蒸发的方法在玻璃衬底上制备出GaSb多晶薄膜材料。研究了薄膜生长速率与衬底温度、Ga源温度和Sb源温度的关系。通过XRD、UV-Vis、Hall效应和AFM等测试方法,研究了衬底温度对于GaSb薄膜的结构特性、光电性质以及表面形貌的影响。GaSb多晶薄膜具有(111)择优取向,薄膜的吸收系数达到105cm-1,晶粒尺寸随衬底温度升高逐渐增大;衬底温度为540℃时,薄膜的迁移率达到127 cm2/V.s,空穴浓度为3×1017 cm-3。 展开更多
关键词 GaSb多晶薄膜 共蒸发 衬底温度
下载PDF
射频等离子体辅助MBE生长GaN及Mg掺杂的光致发光 被引量:1
2
作者 隋妍萍 于广辉 +4 位作者 孟胜 雷本亮 王笑龙 王新中 齐鸣 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第6期971-975,共5页
采用射频等离子体辅助分子束外延(RFplasma-assistedMBE)系统生长非故意掺杂GaN和p型GaN,并且通过室温和低温光致发光(PL)谱测试研究了材料的发光特性及与杂质态的关系,对于GaN外延层出现的黄带发光进行分析。结果表明,富Ga条件下生长的... 采用射频等离子体辅助分子束外延(RFplasma-assistedMBE)系统生长非故意掺杂GaN和p型GaN,并且通过室温和低温光致发光(PL)谱测试研究了材料的发光特性及与杂质态的关系,对于GaN外延层出现的黄带发光进行分析。结果表明,富Ga条件下生长的GaN材料特性要优于富N生长的材料;非故意掺杂的富Ga样品中出现的黄带发光(YL)与GaN中生成能最低的氮空位(VN)缺陷有关;不同的Mg掺杂浓度对样品的PL特性有较大的影响;结合Hall效应测量结果,认为在Mg重掺杂的样品中出现的黄带发光,与GaN的自补偿效应以及重掺杂导致的晶体质量下降有关。 展开更多
关键词 分子束外延 Ⅲ/V比 PL谱 黄带发光
下载PDF
柔性衬底非晶硅薄膜太阳电池量子效率的研究 被引量:5
3
作者 张德贤 薛颖 +5 位作者 蔡宏琨 陶科 姜元建 赵敬芳 王林申 隋妍萍 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第2期407-410,415,共5页
量子效率是太阳电池对光的吸收能力的评定标准之一。本文通过对柔性衬底倒结构n-i-p非晶硅薄膜太阳电池量子效率的测量,同时结合本征材料吸收特性,讨论了衬底温度和反应压强对太阳电池量子效率的影响。结果表明:本征非晶硅薄膜的吸收特... 量子效率是太阳电池对光的吸收能力的评定标准之一。本文通过对柔性衬底倒结构n-i-p非晶硅薄膜太阳电池量子效率的测量,同时结合本征材料吸收特性,讨论了衬底温度和反应压强对太阳电池量子效率的影响。结果表明:本征非晶硅薄膜的吸收特性是影响太阳电池量子效率的主要因素,同时光生载流子在本征层和界面处的复合也会对太阳电池的量子效率有所影响。经过反应条件优化得到了转换效率为5.67%的聚酰亚胺衬底太阳电池。 展开更多
关键词 柔性衬底 n-i-p太阳电池 量子效率 非晶硅薄膜
下载PDF
快速热退火对a_Si:H/SiO_2多层膜光致发光的影响 被引量:2
4
作者 马忠元 韩培高 +6 位作者 黄信凡 隋妍萍 陈三钱波 李伟 徐岭 徐骏 陈坤基 《南京大学学报(自然科学版)》 CSCD 北大核心 2005年第1期55-60,共6页
采用在等离子体增强化学气相沉积 (PECVD)系统中沉积a_Si:H和原位等离子体逐层氧化的方法制备a_Si:H/SiO2 多层膜 .用快速热退火对a_Si:H/SiO2 多层膜进行处理 ,制备nc_Si/SiO2 多层膜 ,研究了这种方法对a_Si:H/SiO2 多层膜发光特性的影... 采用在等离子体增强化学气相沉积 (PECVD)系统中沉积a_Si:H和原位等离子体逐层氧化的方法制备a_Si:H/SiO2 多层膜 .用快速热退火对a_Si:H/SiO2 多层膜进行处理 ,制备nc_Si/SiO2 多层膜 ,研究了这种方法对a_Si:H/SiO2 多层膜发光特性的影响 .研究发现对a_Si:H/SiO2 多层膜作快速热退火处理 ,可获得位于绿光和红光两个波段的发光峰 .研究了不同退火条件下发光峰的变化 .通过对样品的TEM、Raman散射谱和红外吸收谱的分析 ,探讨了a_Si:H/SiO2 多层膜在不同退火温度下的光致发光机理 . 展开更多
关键词 a-Si:H/SiO2多层膜 光致发光 快速热退火
下载PDF
柔性衬底太阳电池陷光结构的研究
5
作者 张德贤 蔡宏琨 +4 位作者 隋妍萍 陶科 席强 薛颖 孙云 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第1期1-4,共4页
讨论了粗糙聚酰亚胺(PI)衬底和具有较高粗糙度的背反射电极对柔性衬底薄膜太阳电池的影响。选择具有天然纹路的PI作为太阳电池的衬底增加光在电池中的光程。采用热辐射加热蒸发方法显著提高铝背反射电极的粗糙度,它是常规方法制备的约4... 讨论了粗糙聚酰亚胺(PI)衬底和具有较高粗糙度的背反射电极对柔性衬底薄膜太阳电池的影响。选择具有天然纹路的PI作为太阳电池的衬底增加光在电池中的光程。采用热辐射加热蒸发方法显著提高铝背反射电极的粗糙度,它是常规方法制备的约4倍。粗糙PI和背反射电极形成的陷光结构使电池的短路电流提高了2mA/ cm^2,量子响应(QE)短波部分得到提高且最高点红移。经QE和原子力测试表明,电池效率提高的主要原因是粗糙的背反射电极导致面电极ZnO的形貌发生明显变化所致。 展开更多
关键词 太阳电池 柔性衬底 陷光结构 粗糙度
下载PDF
共蒸发制备GaSb多晶薄膜的研究 被引量:3
6
作者 阮建明 隋妍萍 +3 位作者 李涛 何炜瑜 蔡宏琨 张德贤 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第4期442-445,共4页
GaSb的禁带宽度为0.72eV,是热光伏电池的理想材料。采用共蒸发的方法,在普通玻璃衬底上生长GaSb多晶薄膜。通过XRD谱、Hall及透射反射谱测试,研究了Ga、Sb源的蒸发温度、衬底温度以及薄膜厚度对薄膜的结构特性和光电特性的影响。研究表... GaSb的禁带宽度为0.72eV,是热光伏电池的理想材料。采用共蒸发的方法,在普通玻璃衬底上生长GaSb多晶薄膜。通过XRD谱、Hall及透射反射谱测试,研究了Ga、Sb源的蒸发温度、衬底温度以及薄膜厚度对薄膜的结构特性和光电特性的影响。研究表明,随衬底温度的升高、薄膜厚度的增加,晶粒尺寸逐渐增大;随衬底温度的升高、Ga源温度的降低以及厚度的增加,迁移率逐渐上升,迁移率最高可达172cm2/(V.s);随衬底温度的降低、Ga源温度的提高以及厚度的增加,载流子浓度逐渐增加。 展开更多
关键词 GaSb多晶薄膜 共蒸发 HALL XRD
下载PDF
Graphene/Mo2C heterostructure directly grown by chemical vapor deposition 被引量:1
7
作者 邓荣轩 张浩然 +7 位作者 张燕辉 陈志蓥 隋妍萍 葛晓明 梁逸俭 胡诗珂 于广辉 姜达 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第6期444-448,共5页
Graphene-based heterostructure is one of the most attractive topics in physics and material sciences due to its intriguing properties and applications. We report the one-step fabrication of a novel graphene/Mo2C heter... Graphene-based heterostructure is one of the most attractive topics in physics and material sciences due to its intriguing properties and applications. We report the one-step fabrication of a novel graphene/Mo2C heterostructure by using chemical vapor deposition(CVD). The composition and structure of the heterostructure are characterized through energydispersive spectrometer, transmission electron microscope, and Raman spectrum. The growth rule analysis of the results shows the flow rate of methane is a main factor in preparing the graphene/Mo2C heterostructure. A schematic diagram of the growth process is also established. Transport measurements are performed to study the superconductivity of the heterostructure which has potential applications in superconducting devices. 展开更多
关键词 graphene/Mo2C heterostructure CVD methane flow rate SUPERCONDUCTIVITY
下载PDF
Effect of Mg Doping on the Photoluminescence of GaN:Mg Films by Radio-Frequency Plasma-Assisted Molecular Beam Epitaxy 被引量:1
8
作者 SUI Yan-Ping YU Guang-Hui 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2011年第6期308-311,共4页
We investigate undoped GaN and Mg-doped GaN grown by rf plasma-assisted molecular beam epitaxy(MBE)with different Mg concentrations by photoluminescence(PL)at low temperature,Hall-effect and XRD measurements.In the PL... We investigate undoped GaN and Mg-doped GaN grown by rf plasma-assisted molecular beam epitaxy(MBE)with different Mg concentrations by photoluminescence(PL)at low temperature,Hall-effect and XRD measurements.In the PL spectra of lightly Mg-doped GaN films,a low intensity near band edge(NBE)emission and strong donor-acceptor pair(DAP)emission with its phonon replicas are observed.As the Mg concentration is increased,the DAP and NBE bands become weaker and a red shift of these bands is observed in the PL spectra.Yellow luminescence(YL)is observed in heavily Mg-doped GaN.The x-ray diffraction is employed to study the structure of the films.Hall measurement shows that there is a maximum value(3.9×10^(18) cm^(−3))of hole concentration with increasing Mg source temperature for compensation effect.PL spectra of undoped GaN are also studied under N-rich and Ga-rich growth conditions.Yellow luminescences of undoped Ga-rich GaN and heavily Mg-doped GaN are compared,indicating the different origins of the YL bands. 展开更多
关键词 GAN EPITAXY BANDS
下载PDF
a-Si:H/SiO2多层膜中的脉冲激光诱导限制结晶
9
作者 乔峰 隋妍萍 +4 位作者 马忠元 李鑫 严晓明 黄信凡 陈坤基 《山东科技大学学报(自然科学版)》 CAS 2003年第z1期63-64,共2页
利用等离子增强化学气相淀积(PECVD)技术制备a-Si:H/SiO2多层膜,并采用脉冲激光诱导限制结晶的方法,对a-Si:H/SiO2多层膜进行晶化.喇曼(Raman)散射谱的结果表明经过激光辐照后纳米硅颗粒在原始的a-Si:H子层形成,且尺寸可以精确控制.
关键词 脉冲激光 多层膜 限制结晶
下载PDF
Structural evolution of a-Si:H/SiO2 multilayers upon step by step thermal annealing
10
作者 梅嘉欣 徐骏 +7 位作者 马忠元 朱达 隋妍萍 李伟 李鑫 芮云军 黄信凡 陈坤基 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2004年第8期1365-1369,共5页
下载PDF
nc-Si/SiO_2多层膜的制备及蓝光发射 被引量:5
11
作者 隋妍萍 马忠元 +3 位作者 陈坤基 李伟 徐骏 黄信凡 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第4期989-992,共4页
在等离子体增强化学气相淀积 (PECVD)系统中 ,采用a Si∶H层淀积与原位等离子体氧化相结合的逐层生长的方法成功制备出a Si∶H SiO2 多层膜 (ML) ;利用限制性结晶原理通过两步退火处理使a Si∶H层晶化获得尺寸可控的nc Si SiO2 ML ,并... 在等离子体增强化学气相淀积 (PECVD)系统中 ,采用a Si∶H层淀积与原位等离子体氧化相结合的逐层生长的方法成功制备出a Si∶H SiO2 多层膜 (ML) ;利用限制性结晶原理通过两步退火处理使a Si∶H层晶化获得尺寸可控的nc Si SiO2 ML ,并观察到室温下的蓝光发射 ;结合Raman散射和剖面透射电子显微镜技术分析了nc Si SiO2 ML的结构特性 ;通过对晶化样品光致发光谱和紫外 可见光吸收谱的研究 。 展开更多
关键词 等离子体增强化学气相淀积 PECVD nc-Si/Si02多层膜 薄膜制备 蓝光发射 纳米硅多层膜 热退火
原文传递
Si基薄膜太阳电池绒面ZGO透明导电膜的研究 被引量:8
12
作者 隋妍萍 姜元建 +4 位作者 蔡宏琨 陶科 王林申 赵静芳 张德贤 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第7期1018-1020,共3页
采用孪生对靶直流磁控溅射的方法在室温下制备高质量的Ga掺杂ZnO(ZGO)透明导电薄膜,用HCl腐蚀的方法获得满足光散射特性的绒面ZGO薄膜。制备的ZGO样品为具有六角纤锌矿结构的多晶膜,具有(002)方向的择优取向。腐蚀后,绒面ZGO薄膜的晶粒... 采用孪生对靶直流磁控溅射的方法在室温下制备高质量的Ga掺杂ZnO(ZGO)透明导电薄膜,用HCl腐蚀的方法获得满足光散射特性的绒面ZGO薄膜。制备的ZGO样品为具有六角纤锌矿结构的多晶膜,具有(002)方向的择优取向。腐蚀后,绒面ZGO薄膜的晶粒度减小,电阻率基本不变。在可见光范围内,绒面ZGO的反射率比平面ZGO的反射率下降了10%左右。将绒面ZGO薄膜应用于p-i-n型非晶Si薄膜太阳电池中,有效提高了太阳电池性能,使得电池的短路电流提高到17.79 mA/cm2,电池的转换效率增加到7.23%。 展开更多
关键词 Ga掺杂ZnO(ZGO) 绒面ZGO 对靶磁控溅射 太阳电池
原文传递
Ⅲ/Ⅴ比对GaN等离子体辅助MBE生长的影响 被引量:2
13
作者 隋妍萍 于广辉 +1 位作者 俞谦荣 齐鸣 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第8期958-962,共5页
在射频(RF)等离子体辅助分子束外延(MBE)系统中,采用低温缓冲层等一系列生长工艺制备出二维生长模式的GaN材料;通过研究Ⅲ/Ⅴ比的调节对GaN生长的影响,确定了微富Ga的MBE生长GaN的优化条件;对GaN富Ga和富N状态的表面形貌和结构进行了比... 在射频(RF)等离子体辅助分子束外延(MBE)系统中,采用低温缓冲层等一系列生长工艺制备出二维生长模式的GaN材料;通过研究Ⅲ/Ⅴ比的调节对GaN生长的影响,确定了微富Ga的MBE生长GaN的优化条件;对GaN富Ga和富N状态的表面形貌和结构进行了比较,富Ga条件下的GaN具有更好的表面和材料特性;通过Hall和光致发光(PL)谱测试研究了GaN的电学和光学性质,GaN的黄带发光(YL)与GaN中生成能最低的V和V缺陷态有关。 展开更多
关键词 分子束外延(MBE) Ⅲ/Ⅴ比 二维生长 光致发光(PL)谱
原文传递
柔性衬底非晶硅薄膜太阳电池界面处理的研究 被引量:7
14
作者 蔡宏琨 陶科 +3 位作者 王林申 赵敬芳 隋妍萍 张德贤 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第11期7921-7925,共5页
通过实验和模拟计算对比分析了i/p界面过渡层对太阳电池性能的影响.结合具体实验工艺参数,模拟计算了不同带隙和缺陷态密度的过渡层对太阳电池的影响,同时结合实验情况重现了宽带隙高缺陷态密度过渡层对太阳电池的损伤,为实验结果提供... 通过实验和模拟计算对比分析了i/p界面过渡层对太阳电池性能的影响.结合具体实验工艺参数,模拟计算了不同带隙和缺陷态密度的过渡层对太阳电池的影响,同时结合实验情况重现了宽带隙高缺陷态密度过渡层对太阳电池的损伤,为实验结果提供了理论依据.通过优化调整i/p界面过渡层的制备方法得到了转换效率为7.09%的聚酰亚胺衬底非晶硅薄膜太阳电池. 展开更多
关键词 柔性衬底 太阳电池 AMPS 模拟计算
原文传递
激光限制结晶技术制备nc-Si/SiO_2多层膜 被引量:3
15
作者 乔峰 黄信凡 +6 位作者 朱达 马忠元 邹和成 隋妍萍 李伟 周晓辉 陈坤基 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第12期4303-4307,共5页
在等离子体增强化学气相淀积系统中 ,采用a Si:H层淀积和原位等离子体氧化相结合的逐层生长技术制备了a Si:H SiO2 多层膜 .在激光诱导限制结晶原理基础上 ,使用KrF准分子脉冲激光为辐照源 ,对a Si:H SiO2 多层膜进行辐照 ,使纳米级厚度... 在等离子体增强化学气相淀积系统中 ,采用a Si:H层淀积和原位等离子体氧化相结合的逐层生长技术制备了a Si:H SiO2 多层膜 .在激光诱导限制结晶原理基础上 ,使用KrF准分子脉冲激光为辐照源 ,对a Si:H SiO2 多层膜进行辐照 ,使纳米级厚度的a Si:H子层晶化 .Raman散射谱和电子衍射谱的结果表明 ,经过激光辐照后纳米Si颗粒在原始的a Si:H子层内形成 ,晶粒尺寸可以根据a Si:H层的厚度精确控制 .还研究了样品的光致发光 (PL) 展开更多
关键词 a-Si:H RAMAN散射 化学气相淀积 激光辐照 生长技术 等离子体增强 多层膜 SiO2 电子衍射 结晶原理
原文传递
柔性衬底硅薄膜太阳电池中ZGO薄膜的应用 被引量:4
16
作者 张德贤 姜元建 +5 位作者 蔡宏昆 薛颖 陶科 王林申 赵敬芳 隋妍萍 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第6期745-748,共4页
在室温下,采用孪生对靶直流磁控溅射工艺,在玻璃衬底上制备出高质量的Ga掺杂ZnO(ZnO:Ga)透明导电膜。研究了薄膜厚度对薄膜的结构、光学及电学特性的影响。制备的ZnO:Ga是具有六角纤锌矿结构的多晶薄膜,最佳择优取向为(002)方向。随着... 在室温下,采用孪生对靶直流磁控溅射工艺,在玻璃衬底上制备出高质量的Ga掺杂ZnO(ZnO:Ga)透明导电膜。研究了薄膜厚度对薄膜的结构、光学及电学特性的影响。制备的ZnO:Ga是具有六角纤锌矿结构的多晶薄膜,最佳择优取向为(002)方向。随着薄膜厚度的增加,衍射峰明显增强,晶粒增大。优化反应条件,薄膜的电阻率达到4.69×10-4Ω.cm,在可见光范围内平均透过率达到了85%以上。将不同厚度的ZnO:Ga薄膜(350~820 nm)在柔性聚酰亚胺衬底nip非晶硅(a-Si)薄膜太阳电池中,随厚度的增加,电池的填充因子和效率都得到了提高,得到聚酰亚胺衬底效率7.09%的a-Si薄膜太阳电池。 展开更多
关键词 Gu掺杂ZnO(ZnO:Ga) 磁控溅射 柔性衬底 太阳电池
原文传递
N扩散对熔液法生长GaN晶体外延速率的影响
17
作者 王斌 赵志德 +2 位作者 隋妍萍 徐伟 于广辉 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 北大核心 2013年第2期59-62,共4页
使用钠熔液液相外延在GaN/蓝宝石衬底上生长出GaN晶体;研究晶体生长速度与生长压力的关系,使用DCXRD对样品进行表征,发现在氮气压力为3.8MPa,温度为800℃的条件下,外延速度较快且结晶质量较高;研究还发现GaN晶体外延层的生长速率不但与... 使用钠熔液液相外延在GaN/蓝宝石衬底上生长出GaN晶体;研究晶体生长速度与生长压力的关系,使用DCXRD对样品进行表征,发现在氮气压力为3.8MPa,温度为800℃的条件下,外延速度较快且结晶质量较高;研究还发现GaN晶体外延层的生长速率不但与溶液中N的输运有关,还与熔液中N的浓度有关。 展开更多
关键词 氮化镓 液相外延 XRD
原文传递
纳米孔氮化镓材料的制备和研究 被引量:2
18
作者 王笑龙 于广辉 +4 位作者 雷本亮 隋妍萍 孟胜 齐鸣 李爱珍 《功能材料与器件学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第4期255-258,共4页
介绍了一种在氮化镓外延片表面制备得到孔径为纳米量级的多孔结构的工艺。用电化学方法制备出孔径为纳米量级的多孔阳极氧化铝模板作为掩模,经过电感耦合等离子体(ICP)刻蚀制备得到纳米孔氮化镓材料。孔的大小和孔间距可以通过改变阳极... 介绍了一种在氮化镓外延片表面制备得到孔径为纳米量级的多孔结构的工艺。用电化学方法制备出孔径为纳米量级的多孔阳极氧化铝模板作为掩模,经过电感耦合等离子体(ICP)刻蚀制备得到纳米孔氮化镓材料。孔的大小和孔间距可以通过改变阳极氧化条件来控制,改变刻蚀时间可以控制孔深。刻蚀所用气体为氯气和惰性气体的混合物。扫描电镜照片显示,掩模图形能够很好地转移到GaN材料上。刻蚀后的材料经光荧光谱(PL Spectra)谱和Raman散射谱测试,显示出良好的光学特性,并在一定程度上释放了应力。 展开更多
关键词 氮化镓 纳米孔 阳极氧化铝 ICP刻蚀 RAMAN
原文传递
VLS和VSS生长机制调控的单层TMD中的反向掺杂分布 被引量:1
19
作者 田闯 肖润涵 +12 位作者 隋妍萍 冯钰涵 王浩敏 赵孙文 刘家文 高秀丽 孙浩 彭松昂 金智 刘新宇 王爽 李湃 于广辉 《Science China Materials》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第12期4723-4732,共10页
掺杂是改善过渡金属二硫族化合物(TMD)单层薄膜性能的重要方法.然而,现有的研究大多集中在掺杂能力上,对掺杂分布的研究还处于起步阶段.近年来,基于旋涂化学气相沉积法研究了掺杂原子空间掺杂分布的差异.这些掺杂的TMD大多是通过气-液-... 掺杂是改善过渡金属二硫族化合物(TMD)单层薄膜性能的重要方法.然而,现有的研究大多集中在掺杂能力上,对掺杂分布的研究还处于起步阶段.近年来,基于旋涂化学气相沉积法研究了掺杂原子空间掺杂分布的差异.这些掺杂的TMD大多是通过气-液-固(VLS)生长机制生长的.采用气-固-固(VSS)生长机制生长的TMD尚未被用来深入研究掺杂分布.本文采用Na_(2)WO_(4),NaVO_(3),NaOH(Na-Pre),(NH_(4))_(2)WO_(4),NH_(4)VO_(3)(NH_(4)-Pre)等前驱体合成V–WS_(2).观察到中心和边缘区域完全相反的掺杂分布.还观察到浓度变化较大的界面的出现.通过透射电子显微镜精确地表征了掺杂原子的空间浓度.根据密度泛函理论的计算结果,掺杂分布的差异是由初始态引起的,这与VLS和VSS的生长机制有关.这项工作为控制掺杂原子的分布提供了一种新的方法,对掺杂TMD在微电子和纳米电子器件中的应用具有重要意义. 展开更多
关键词 transition metal dichalcogenide doping distribution vapor-liquid-solid vapor-solid-solid chemical vapor deposition
原文传递
Aligned monolayer MoS2 ribbons growth on sapphire substrate via NaOH-assisted chemical vapor deposition 被引量:1
20
作者 Shike Hu Jing Li +12 位作者 Xiaoyi Zhan Shuang Wang Longbiao Lei Yijian Liang He Kang Yanhui Zhang Zhiying Chen Yanping Sui Da Jiang Guanghui Yu Songang Peng Zhi Jin Xinyu Liu 《Science China Materials》 SCIE EI CSCD 2020年第6期1065-1075,共11页
This study reports the growth of aligned monolayer molybdenum disulfide(MoS2)ribbons on a sapphire substrate via NaOH-assisted chemical vapor deposition.The length of MoS2 ribbon is up to 400μm.The MoS2 ribbon has ex... This study reports the growth of aligned monolayer molybdenum disulfide(MoS2)ribbons on a sapphire substrate via NaOH-assisted chemical vapor deposition.The length of MoS2 ribbon is up to 400μm.The MoS2 ribbon has excellent single crystal properties,a carrier mobility of^150 cm^2V^-1s^-1,and a optical response of 103 mA W^-1 at a wavelength of 550 nm.The growth model of MoS2 ribbons was given.NaOH reacts with MoO3 to form sodium molybdate droplets,which increase the fluidity of the molybdenum source on the substrate,realizing the vapor-liquid-solid growth of MoS2 on sapphire.The monolayer MoS2 ribbons have two kinds of arrangements on the sapphire substrate,one is the oriented growth affected by the interlayer van der Waals force and the lattice,and the other is the aligned growth constrained by the sapphire step.Our results promote the basic research and device applications of MoS2,and introduce a new way of synthesizing other one dimensional(1D)and 2D nanostructures. 展开更多
关键词 MOS2 aligned ribbons vapor-liquid-solid step EPITAXY
原文传递
上一页 1 2 下一页 到第
使用帮助 返回顶部