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不同衬底条件对MEMS压阻传感器性能的影响
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作者 隋鸿鹏 张威 《纳米技术与精密工程》 EI CAS CSCD 2008年第3期199-201,共3页
为了研究不同衬底条件对MEMS压阻传感器性能的影响,采用3种掺杂条件的衬底进行实验测试.在各步骤热过程后,对3种衬底条件下压阻区、引出区和保护框的方块电阻进行了测量和分析.通过对各部分方块电阻的测量可以看出,对于压阻区(P^... 为了研究不同衬底条件对MEMS压阻传感器性能的影响,采用3种掺杂条件的衬底进行实验测试.在各步骤热过程后,对3种衬底条件下压阻区、引出区和保护框的方块电阻进行了测量和分析.通过对各部分方块电阻的测量可以看出,对于压阻区(P^-区),A#和B#的方块电阻在开始注入扩散时相差很小,而由于注入杂质在高温下进一步扩散,衬底掺杂浓度对扩散后杂质分布的影响加大,方块电阻在后续的热过程中差别增大.通过比较不同衬底条件下各个热过程后的压阻数据,发现在3种掺杂条件中,20~40Ω·cm的衬底最符合预期压阻的设计.此结论已用于指导实际产品生产. 展开更多
关键词 微机电系统(MEMS) 压阻 传感器 衬底
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