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薄膜材料
1
作者
菅原登
青木智则
江涛
《红外》
CAS
1996年第10期29-36,共8页
1. 前言光学薄膜是四十年代以后随着真空蒸发法的发展而开始普及的。进入六十年代后,由于电子枪的进步,其应用领域进一步扩大了。为了适应这类装置的发展,光学薄膜所用的材料也由低融点的金属和氟化物、硫化物等向高融点的氧化物发展。...
1. 前言光学薄膜是四十年代以后随着真空蒸发法的发展而开始普及的。进入六十年代后,由于电子枪的进步,其应用领域进一步扩大了。为了适应这类装置的发展,光学薄膜所用的材料也由低融点的金属和氟化物、硫化物等向高融点的氧化物发展。不只是光学特性,还附加了其它功能。
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关键词
薄膜材料
光学薄膜
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职称材料
题名
薄膜材料
1
作者
菅原登
青木智则
江涛
机构
日本プトロニ研究开发部(株)
出处
《红外》
CAS
1996年第10期29-36,共8页
文摘
1. 前言光学薄膜是四十年代以后随着真空蒸发法的发展而开始普及的。进入六十年代后,由于电子枪的进步,其应用领域进一步扩大了。为了适应这类装置的发展,光学薄膜所用的材料也由低融点的金属和氟化物、硫化物等向高融点的氧化物发展。不只是光学特性,还附加了其它功能。
关键词
薄膜材料
光学薄膜
分类号
O484.41 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
薄膜材料
菅原登
青木智则
江涛
《红外》
CAS
1996
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