公-自转磁控溅射镀膜系统薄膜沉积均匀性的研究

研究了公-自转磁控溅射镀膜系统的机理。通过物理建模,使用交点采集和时间步长划分两种模型,分别计算模拟了矩形靶沉积时间的三维分布图,并讨论自转与公转转速比对沉积时间均匀性的影响。模拟结果表明:两种模型仿真结果一致,验证了理论模型的正确性。同时得到结论:此公-自转系统可以通过调节转速比的方法来改善薄膜厚度的均匀性,采用文中指定工艺参数,当转速比等于0.5的时候,薄膜厚度最均匀。仿真得到的偏差结果与实验较好的吻合。

平面磁控溅射薄膜厚度均匀性的研究概述

在平面磁控溅射镀膜系统中,薄膜厚度均匀性作为衡量薄膜质量和成膜系统性能的一项重要指标,得到了国内外学者们的广泛研究。本文以膜厚分布的理论模型为出发点,从工艺条件及模型参数两个方面,对靶与基片的位置关系、基片的运动方式、靶材的形状、溅射功率、工作气压、工作模式等各种影响以及改善薄膜厚度均匀性的因素进行了系统的归纳和陈述。最后对平面磁控溅射镀膜系统膜厚分布的研究进展进行总结并提出了展望。

磁控溅射带电粒子的运动分布以及靶面刻蚀形貌的研究

首先使用有限元分析方法求解磁控溅射电磁场的分布,然后结合受力分析,仿真了单电子运动轨迹并较好地呈现螺旋形状,同时模拟出多粒子束的靶面位置分布以及刻蚀形貌图,最后把计算结果与实验中靶面刻蚀形貌进行对比,所求结果与实验测量数据吻合。

幅相一致性对相控阵天线方向图影响的仿真研究

本研究仿真分析了相控阵天线幅相一致性对天线方向图性能的影响。对于工作频率为10GHz16个单元的线阵相控阵天线,相位波动对波束指向的影响较大而幅度波动无影响,第一副瓣电平随着幅度和相位波动增加都升高且相位的影响明显更大,3dB宽度也随着幅度和相位波动的加大而扩大,而且在波束指向偏离法向时也是明显增加,此时第一副瓣电平则出现下降。分析结果表明,相位波动在天线方向图波束指向、第一副瓣电平和3dB宽度等性能的影响上都更为显著。

电压互感器传感头电场仿真与优化设计

在电压互感器中,传感头电场分布对互感器绝缘性能具有重要影响。通过设计不同形状尺寸的传感头电极,包括方块电极、半圆边电极、纺锤形电极、三角形边电极和内斜边电极,分别仿真其电场分布。结果表明,采用内斜边电极时,传感头周围的电场均匀性最好。同时压电陶瓷相对介电常数较大损耗角正切较小时,电压互感器具有更好的绝缘性能,其电场均匀性也更好。

电磁炉磁场和涡流分布仿真研究

采用ANSYS建立电磁炉有限元模型,对电磁炉工作时的磁场和涡流分布进行了仿真。结果显示,磁芯对线圈产生的磁场具有明显的束缚作用,随着磁芯相对磁导率的减小,其对磁场的束缚作用明显减小,而且相同区域的磁通量密度也逐渐减小;电磁炉的涡流分布呈圆环形,且分布在锅的底部,仿真结果与实际情况吻合。

静电射流技术制备纳米材料的研究进展

电流体动力学射流技术包括静电喷雾和静电纺丝2项孪生技术,是新型的纳米材料制备方法,可以制备纳米薄膜、纳米纤维、壳-鞘结构纤维、纳米管、微纳米包囊、量子点等各种形态的纳米材料。对此进行了系统的总结:静电喷雾技术制备的薄膜比常规喷雾法制备的薄膜更为均匀;静电纺丝技术近年来更是在取向型纤维的制备、无机陶瓷纤维的制备以及同轴射流技术方面取得了重大突破。