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钒补偿度对SiC光导开关特性影响的研究
被引量:
1
1
作者
周郁明
靳爱津
冯德仁
《电子科技大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第6期937-940,共4页
利用半导体器件仿真软件研究了钒掺杂半绝缘碳化硅(SiC)光导开关(PCSS)在电容放电电路中的瞬态特性。在非故意掺杂氮浓度为1 1014cm 3、硼浓度为1 1011cm 3和电容初始电压为1000 V的条件下,当钒浓度为1 1012cm 3时,电路在初始阶段有一...
利用半导体器件仿真软件研究了钒掺杂半绝缘碳化硅(SiC)光导开关(PCSS)在电容放电电路中的瞬态特性。在非故意掺杂氮浓度为1 1014cm 3、硼浓度为1 1011cm 3和电容初始电压为1000 V的条件下,当钒浓度为1 1012cm 3时,电路在初始阶段有一个完整的振荡脉冲电流,随后存在较大的泄露电流,当光导开关受到波长为532 nm、功率为2400 W/cm2激光的激发时,电容放电形成幅值约为88 A的陡峭脉冲电流,激光结束后电路还有较大的拖尾电流。随着钒浓度增加到1 1014cm 3,初始阶段的振荡电流消失,漏电流和拖尾电流均减小,受到激光激发时所形成的脉冲电流幅值约为8 A,而钒浓度增加到1 1017cm 3时,幅值减小到2.5A。
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关键词
能级
漏电流
光导开关
碳化硅
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职称材料
题名
钒补偿度对SiC光导开关特性影响的研究
被引量:
1
1
作者
周郁明
靳爱津
冯德仁
机构
安徽工业大学电气信息学院
出处
《电子科技大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第6期937-940,共4页
基金
国家自然科学基金(51177003)
文摘
利用半导体器件仿真软件研究了钒掺杂半绝缘碳化硅(SiC)光导开关(PCSS)在电容放电电路中的瞬态特性。在非故意掺杂氮浓度为1 1014cm 3、硼浓度为1 1011cm 3和电容初始电压为1000 V的条件下,当钒浓度为1 1012cm 3时,电路在初始阶段有一个完整的振荡脉冲电流,随后存在较大的泄露电流,当光导开关受到波长为532 nm、功率为2400 W/cm2激光的激发时,电容放电形成幅值约为88 A的陡峭脉冲电流,激光结束后电路还有较大的拖尾电流。随着钒浓度增加到1 1014cm 3,初始阶段的振荡电流消失,漏电流和拖尾电流均减小,受到激光激发时所形成的脉冲电流幅值约为8 A,而钒浓度增加到1 1017cm 3时,幅值减小到2.5A。
关键词
能级
漏电流
光导开关
碳化硅
Keywords
energy levels
leakage current
photoconducting switches
Silicon carbide
分类号
TN36 [电子电信—物理电子学]
TM89 [电气工程—高电压与绝缘技术]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
钒补偿度对SiC光导开关特性影响的研究
周郁明
靳爱津
冯德仁
《电子科技大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012
1
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职称材料
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