溅射用高纯铜靶材制备工艺研究

高纯铜靶材是电子行业中用量最大的金属靶材制品之一。溅射用铜靶的微观组织结构对溅射薄膜的质量具有重要影响。制备研究了高品质的高纯铜靶材的制备工艺,认为若获得细小均匀的微观组织,必须对高纯铜锭进行镦拔工艺处理。高纯铜铸锭在550℃具有较低的变形抗力,镦拔开坯后,铸态组织得到充分破碎,而且组织比较均匀。此外,铜靶的合理热处理温度在450℃~550℃之间,热处理时间为30 min^60 min.

具有1∞形式的极限的探讨

具有1∞形式极限是一类很重要的极限,在考试中涉及比较多,学生对此也比较模糊不清,同济大学的教材只给出这种重要的极限及简单的解题方法,没有给出极限存在与否的充分和必要条件,本文给出充要条件。