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添加不同种类镍粉体对镁合金微弧氧化膜性能的影响
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作者 张瑜 赵佳新 +2 位作者 代永祺 韩天霞 温新 《电镀与环保》 CAS CSCD 北大核心 2018年第4期47-49,共3页
在微弧氧化基础电解液中分别添加磁性镍粉体和镍包覆碳化硅粉体,研究不同种类镍粉体对微弧氧化膜性能的影响。结果表明:添加磁性镍粉体的试片表面更加平整,覆盖性好,并且点滴时间长。磁性镍粉体的最佳质量浓度为4g/L,此条件下自腐蚀电流... 在微弧氧化基础电解液中分别添加磁性镍粉体和镍包覆碳化硅粉体,研究不同种类镍粉体对微弧氧化膜性能的影响。结果表明:添加磁性镍粉体的试片表面更加平整,覆盖性好,并且点滴时间长。磁性镍粉体的最佳质量浓度为4g/L,此条件下自腐蚀电流为4.682×10^(-7) A,自腐蚀电位为-0.843V;镍包覆碳化硅粉体的最佳质量浓度同样为4g/L,此条件下自腐蚀电流为1.548×10^(-6) A,自腐蚀电位为-0.913V。添加磁性镍粉体使镁合金微弧氧化膜的性能变得更好。 展开更多
关键词 镁合金 微弧氧化 镍粉体 碳化硅
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