ZnO薄膜的脉冲激光沉积及性能研究

利用脉冲激光沉积技术在氧的活性气氛下烧蚀锌靶,在石英玻璃衬底上沉积获得ZnO薄膜,分析并研究了薄膜的微观组织及表面形态及激光能量密度、基体温度、氧压等工艺参数对沉积ZnO膜的影响。结果表明,在基体温度为450-550℃、氧压为31Pa、激光能量密度为31J/cm^2条件下,膜表面完全氧化,ZnO沿（002）晶面生长;当基体温度为500℃时,ZnO薄膜光学性能优异。