第三代半导体材料SiC平坦化技术的研究现状

在半导体工业中,SiC由于化学性能稳定、导热系数高、热膨胀系数小、耐磨性能好等优良特性,成为了该领域最有发展前景的材料之一。然而,SiC材料硬脆性和化学惰性的特点,针对它的平坦化一直是SiC单晶材料制造的难点并在一定程度上制约着半导体芯片集成技术的发展。为获得理想的表面质量、实现有效的材料去除和平坦化加工,国内外学者提出了许多加工方法。本文结合超光滑表面抛光加工的目标,主要针对加工精度和平坦化加工效果较好、应用较广的磨粒加工、化学机械抛光、磁流变抛光方法的原理特点及存在问题进行归纳分析。

安丘市档案馆荣登《中国档案》杂志封面

《中国档案》第12期封面采用了安丘市档案馆照片,并在刊内宣传介绍了安丘档案先进工作经验。2022年以来,安丘市档案工作在市委、市政府和省市档案业务部门的正确领导和大力支持下,不断提升档案治理体系和治理能力建设,全力推进国家级数字档案馆创建.