不同工作参数下Ni/Ag双层膜GDOES深度谱的比较

随着射频辉光放电光谱仪在镀层和薄膜深度剖析中的应用逐渐深入,人们对其工作原理、设置参数对测试的影响也越来越关注。本文通过在不同气体工作压强和溅射功率下,对镍/银双层膜样品进行了辉光放电深度剖析的实验,探讨了自偏压与工作压强和溅射功率的关系。实验结果表明,自偏压随工作压强的增加而减小;随着溅射功率的增加,溅射速率随之增加,在特定的工作压强下会出现一个最大的溅射速率;溅射坑的形貌主要取决于气体的工作压强。

辉光放电发射光谱在材料成分-深度分析中的应用

本文首先对辉光放电发射光谱(Glow Discharge Optical Emission Spectrometry-GDOES)基本原理做了简单评述,重点说明了对测量的材料成分-深度实验数据的定量分析。随后介绍了GDOES在材料表面、薄膜和涂层等领域的应用。最后给出了利用MRI模型对GDOES深度剖析数据定量分析的实例。

溅射深度剖析定量分析及其应用研究进展

溅射深度剖析技术已广泛应用于薄膜材料与功能多层膜结构中成分深度分布的表征,但由于其涉及复杂的溅射过程,样品形貌的多样性,探测信号来自距样品表层不同的深度,新溅射技术的频出,以及其应用范围不断的扩大,使得深度剖析定量分析的研究方兴未艾.本文首先回顾了深度剖析定量分析方法的发展过程,特别对其中的"原子混合(Mixing)-粗糙度(Roughness)-信息深度(Information)"(MRI)模型建立的物理背景,以及为满足高分辨率深度剖析数据的定量分析所进行的拓展进行了详细的论述.给出了利用深度剖析定量分析方法确定深度分辨率、超晶格及分子结构的重构、多层膜界面间粗糙度及薄膜中扩散系数的实例.

规则表面形貌的表征

量子点与超晶格等有序结构呈现规则的表面形貌,它们的特性与表征表面粗糙度的参数密切相关.本文说明了如何利用单值周期函数对这些规则表面形貌进行模拟,并分析了其高度分布函数,以及给出了高度分布函数与单值函数导数变化的关系.