低温无光釉的研制

通过调整釉式中氧化铝和氧化硅的摩尔数,制备了一系列在较低的温度(1180℃～1220℃)下快速烧成的无光釉。采用扫描电镜对釉面进行表征,结果表明无光釉的形成主要是由于在釉层中存在微细的晶体,从而造成釉面无光。