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ZnO/p-Si异质结构的电学输运特性
被引量:
1
1
作者
顾启琳
陈旭东
+4 位作者
凌志聪
梅永丰
傅劲裕
萧季驹
朱剑豪
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007年第z1期149-152,共4页
采用等离子体浸没离子注入沉积方法,在p型Si衬底上制备了具有整流特性的、非故意掺杂的以及掺氮的ZnO/p-Si异质结.非故意掺杂的ZnO薄膜为n型(电子浓度为1019cm-3数量级),掺氮的ZnO薄膜为高阻(电阻率为105Ω·cm数量级).非故意掺杂的...
采用等离子体浸没离子注入沉积方法,在p型Si衬底上制备了具有整流特性的、非故意掺杂的以及掺氮的ZnO/p-Si异质结.非故意掺杂的ZnO薄膜为n型(电子浓度为1019cm-3数量级),掺氮的ZnO薄膜为高阻(电阻率为105Ω·cm数量级).非故意掺杂的ZnO/p-Si异质结在正向偏压下,当偏压大于0.4V,电流遵循欧姆定律.然而对于掺氮的ZnO/p-Si样品,当偏压小于1.0V时,电流表现为欧姆特性,当偏压大于2.5V时,电流密度与电压的平方成正比的关系.分别用Anderson模型和空间电荷限制电流模型对非故意掺杂和掺氮的ZnO/p-Si异质结二极管的电流输运特性进行了解释.
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关键词
PIII&D
ZnO/p-Si异质结
ANDERSON模型
空间电荷限制模型
电流输运
下载PDF
职称材料
题名
ZnO/p-Si异质结构的电学输运特性
被引量:
1
1
作者
顾启琳
陈旭东
凌志聪
梅永丰
傅劲裕
萧季驹
朱剑豪
机构
香港大学物理系
出处
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007年第z1期149-152,共4页
基金
香港特别行政区研究资助局资助项目(批准号:7032104)
文摘
采用等离子体浸没离子注入沉积方法,在p型Si衬底上制备了具有整流特性的、非故意掺杂的以及掺氮的ZnO/p-Si异质结.非故意掺杂的ZnO薄膜为n型(电子浓度为1019cm-3数量级),掺氮的ZnO薄膜为高阻(电阻率为105Ω·cm数量级).非故意掺杂的ZnO/p-Si异质结在正向偏压下,当偏压大于0.4V,电流遵循欧姆定律.然而对于掺氮的ZnO/p-Si样品,当偏压小于1.0V时,电流表现为欧姆特性,当偏压大于2.5V时,电流密度与电压的平方成正比的关系.分别用Anderson模型和空间电荷限制电流模型对非故意掺杂和掺氮的ZnO/p-Si异质结二极管的电流输运特性进行了解释.
关键词
PIII&D
ZnO/p-Si异质结
ANDERSON模型
空间电荷限制模型
电流输运
分类号
O472 [理学—半导体物理]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
ZnO/p-Si异质结构的电学输运特性
顾启琳
陈旭东
凌志聪
梅永丰
傅劲裕
萧季驹
朱剑豪
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007
1
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职称材料
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