改进的化学镀法制备钯/α-Al_2O_3无机复合膜的研究

对传统的化学镀工艺作了适当改进 采用将载体孔隙暂时性封闭后再以较高浓度的溶液进行短时多次的敏化和活化操作和以一定速度添加肼的方式 ,在载体表面稳定钯的沉积速度 ,控制膜厚均匀增长 ,在平均孔径为 1μm的陶瓷载体上制备了约 1.3μm厚的超薄钯膜 扫描电镜照片表明膜表面无缺陷存在 。

稀土改进化学镀共沉积钯-银合金膜

采用稀土改进的化学镀法在多孔陶瓷载体上共沉积钯-银合金膜。重点讨论了Yb-La、Yb-Pr和Yb-Nd三种不同混合稀土元素对钯-银共沉积速率的影响和Yb-La混合稀土元索对镀温和镀层组成的影响。实验结果表明，在适宜的三种混合稀土元素的浓度下，钯-银共沉积速率比未添加稀土时分别提高了63％、51％和32％。添加Yb-La混合稀土元素后，在得到相同的钯-银共沉积速率时，镀温比未添加稀土时可降低10℃～20℃，且对镀层组成无明显影响。制备的76．8Pd～23．2Ag的合金薄膜，其厚度为7．7μm，在350℃和0．3MPa下，氢气和氮气通过膜的渗透通量分别为8．65×10^-3m^3/m^2·s和1.92×10^-6m^3/m^2·s。

化学镀Pd-Ag合金的研究

从化学镀理论出发,建立了Pd-Ag共沉积行为的数学模型,通过验证表明该模型参数计算值与实验值的误差较小,对化学镀共沉积钯银有一定的指导意义。分别考察了在一定的镀液金属总浓度([M]O)、还原剂肼的浓度([N2H4])和pH的条件下,模型参数温度(t)、镀液中Pd/Ag摩尔比(α)和ED-TA浓度(ρ)对金属沉积速度、镀层银含量和两金属还原电位差的影响。实验结果表明,当[M]0、t、ρ和α分别为5×10-3mol/L、40℃、40 g/L和4∶1时,采用化学镀共沉积法可制得陶瓷负载型76.9%Pd-23.1%Ag无机复合膜,且镀层厚度为8.5μm。在350℃和0.3 MPa下,氢气和氮气通过膜的渗透通量分别为7.9×10-3m3/(m2.s)和2.1×10-6m3/(m2.s)。

渗透压在化学镀共沉积钯银中的应用研究

本研究将渗透压应用于化学镀共沉积钯银过程 ,制备了顶膜厚为 8μm、组成为 76 .4Pd - 2 3.6Ag的陶瓷负载型无机复合膜 .重点研究了渗透压对化学镀共沉积钯银的沉积速度、镀层组成和膜表面结构性能的影响 .实验结果表明 ,化学镀中引入渗透压 ,可提高钯 -银的共沉积速度、改善膜的致密程度和提高膜的结合程度 ,但对镀层的组成无明显影响 .在 35 0℃和 0 .3MPa下 ,膜的氢渗透系数为 3.0 7× 10 -12 moL·cm/cm2 ·s·pa0 .5,H2 /N2 分离因子达 4 0 0 0 .

渗透压对化学镀自催化共沉积钯银的影响

采用渗透压-化学镀联合法共沉积钯银制备陶瓷负载型钯-银无机复合膜.研究了渗透压对化学镀共沉积钯银的沉积速度、镀层组成和膜表面结构性能的影响.结果表明,化学镀中引入渗透压,可提高钯-银的共沉积速度、改善膜的致密程度和结合程度,但对镀层的组成无明显影响.用扫描电镜、ICP原子发射光谱和称重法对膜结构进行表征.制备的钯-银顶膜厚约8μm,银的摩尔分数为23.6%,在350℃和0.3MPa下,膜的氢渗透通量为8.4×10-3m3/(m2·s),H2/N2分离因子4000.